Зміни структури та властивостей кремнію під час легування ітербієм: результати комплексного аналізу

  • Ходжакбар С. Далієв Інститут фізики напівпровідників і мікроелектроніки Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0000-0002-2164-6797
  • Шаріфа Б. Утамурадова Інститут фізики напівпровідників і мікроелектроніки Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0000-0002-1718-1122
  • Джонібек Дж. Хамдамов Інститут фізики напівпровідників і мікроелектроніки Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0000-0003-2728-3832
  • Мансур Б. Бекмуратов Інститут фізики напівпровідників і мікроелектроніки Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0009-0006-3061-1568
  • Шахрійор Б. Норкулов Інститут фізики напівпровідників і мікроелектроніки Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0000-0002-2171-4884
  • Улугбек М. Юлдошев Інститут фізики напівпровідників і мікроелектроніки Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0009-0003-7575-7497
Ключові слова: монокристалічний кремній, легування ітербієм, атомно-силова мікроскопія, рамановська спектроскопія, шорсткість поверхні, наноструктури, електричні властивості, MDS-структури, інтерфейс Si-SiO₂

Анотація

У цій роботі проведено комплексне дослідження структурних, хімічних та електрофізичних властивостей монокристалічного кремнію (Si), легованого ітербієм (Yb). Легування проводили методом термодифузії при температурі 1473 К в умовах високого вакууму з подальшим швидким охолодженням. Для аналізу зразків використовували атомно-силову мікроскопію (АСМ), інфрачервону Фур’є-спектроскопію (FTIR), спектроскопію глибокого рівня (DLTS) і раманівську спектроскопію (RAMAN). АСМ-зображення легованих зразків продемонстрували суттєві зміни рельєфу поверхні. Середньоквадратична шорсткість зросла з менш ніж 10 нм до 60–80 нм, а максимальна висота нерівностей досягла 325 нм. Ці зміни зумовлені утворенням наноструктур внаслідок нерівномірного розподілу атомів ітербію у кристалічній решітці кремнію та виникненням внутрішніх напруг. ІЧ-Фур'є-спектроскопія виявила зниження концентрації оптично активного кисню (NOopt) на 30-40% після легування, що пов'язано з хімічною взаємодією ітербію з кремнієм. Спектри RAMAN виявили утворення нових фаз та нанокристалів, що свідчить про перебудову кристалічної решітки внаслідок введення ітербію. Коефіцієнт дифузії ітербію в кремнії становить 1,9×10⁻¹⁵ см²/с, що свідчить про повільний процес дифузії, характерний для рідкоземельних металів. Це також сприяло зниженню густини поверхневих станів на межі Si-SiO₂ і появі глибоких рівнів з енергією іонізації Ec-0,32 еВ.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

L.T. Canham, “Silicon quantum wire array fabrication by electrochemical and chemical dissolution of wafers,” Appl. Phys. Lett. 57, 1046-1990. https://doi.org/10.1063/1.103561

F. Huisken, H. Hofmeister, B. Kohn, M.A. Laguna, and V. Paillard, “Laser production and deposition of light-emitting silicon nanoparticles,” Appl. Surf. Sci. 154–155, 305 (2000). https://doi.org/10.1016/s0169-4332(99)00476-6

V. Vinciguerra, G. Franzo, F. Priolo, F. Iacona, and C. Spinella, “Quantum confinement and recombination dynamics in silicon nanocrystals embedded in Si/SiO2 superlattices,”J. Appl. Phys. 87, 8165 (2000). https://doi.org/10.1063/1.373513

F. Koch, and V. Petrova-Koch, “Light from Si-nanoparticle systems - a comprehensive view,”J. Non-Cryst. Solids, 198–200, 840 (1996). https://doi.org/10.1016/0022-3093(96)00067-1

Zh. Ma, X. Liao, J. He, W. Cheng, G. Yue, Y. Wang, and G. Kong, “Annealing behaviors of photoluminescence from SiOx:H,” J. Appl. Phys. 83, 7934 (1998). https://doi.org/10.1063/1.367973

M. Zaharias, H. Freistdt, F. Stolze, T.P. Drusedau, M. Rosenbauer, and M. Stutzmann, “Properties of sputtered a-SiOx:H alloys with a visible luminescence,” J. Non-Cryst. Solids, 164–166, 1089 (1993). https://doi.org/10.1016/0022-3093(93)91188-9

U. Kahler, and H. Hofmeister, “Silicon nanocrystallites in buried SiOx layers via direct wafer bonding,” Appl. Phys. Lett. 75, 641 (1999). https://doi.org/10.1063/1.124467

S. Zhang, W. Zhang, and J. Yuan, “The preparation of photoluminescent Si nanocrystal–SiOx films by reactive evaporation,” Thin Solid Films, 326, 92 (1998). https://doi.org/10.1016/S0040-6090(98)00532-X

W. Li, G.S. Kaminski Schierle, B. Lei, Y. Liu, and C.F. Kaminski, „Fluorescent Nanoparticles for Super-Resolution Imaging,” Chemical Reviews, 122, 12495−12543 (2022). https://doi.org/10.1021/acs.chemrev.2c00050

A.S. Zakirov, Sh.U. Yuldashev, H.D. Cho, J.C. Lee, T.W. Kang, J.J. Khamdamov, and A.T. Mamadalimov, “Functional Hybrid Materials Derived from Natural Cellulose,” Journal of the Korean Physical Society, 60(10), 1526-1530 (2012). https://doi.org/10.3938/jkps.60.1526

A.S. Zakirov, Sh.U. Yuldashev, H.J. Wang, H.D. Cho, T.W. Kang, J.J. Khamdamov, and A.T. Mamadalimov, “Photoluminescence study of the surface modified and MEH-PPV coated cotton fibers,” Journal of Luminescence, 131(2), 301–305 (2011). https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2010.10.019

H. Richter, Z.P. Wang, and L. Ley, “The one phonon Raman spectrum in microcrystalline silicon,” Solid State Commun. 39, 625 (1981). https://doi.org/10.1016/0038-1098(81)90337-9

Z. Iqbal, and S. Veprek, “Raman scattering from hydrogenated microcrystalline and amorphous silicon,” J. Phys. C, 15, 377 (1982). https://doi.org/10.1088/0022-3719/15/2/019

J. Gonzales-Hernandez, G.H. Azarbayejani, R. Tsu, and F.H. Pollak, “Raman, transmission electron microscopy, and conductivity measurements in molecular beam deposited microcrystalline Si and Ge: A comparative study,”Appl. Phys. Lett. 47, 1350 (1985). https://doi.org/10.1063/1.96277

I.H. Campbell, and P.M. Fauchet, “The effects of microcrystal size and shape on the one phonon Raman spectra of crystalline semiconductors,” Solid State Commun. 52, 739 (1986). https://doi.org/10.1016/0038-1098(86)90513-2

J. Zi, H. Buscher, C. Falter, W. Ludwig, K. Zhang, and X. Xie, “Raman shifts in Si nanocrystals,” Appl. Phys. Lett. 69, 200 (1996). https://doi.org/10.1063/1.117371

D.R. dos Santos, and I.L. Torriany, “Crystallite size determination in μc-Ge films by x-ray diffraction and Raman line profile analysis,” Solid State Commun. 85, 307 (1993). https://doi.org/10.1016/0038-1098(93)90021-E

Kh.S. Daliev, Z.E. Bahronkulov, and J.J. Hamdamov, “Investigation of the Magnetic Properties of Silicon Doped with Rare-Earth Elements,” East Eur. J. Phys. 4, 167 (2023). https://doi.org/10.26565/2312-4334-2023-4-18

Kh.S. Daliev, Sh.B. Utamuradova, Z.E. Bahronkulov, A.Kh. Khaitbaev, and J.J. Hamdamov, “Structure Determination and Defect Analysis n-Si, p-Si Raman Spectrometer Methods,” East Eur. J. Phys. (4), 193 (2023). https://doi.org/10.26565/2312-4334-2023-4-23

P.A. Temple, and C.E. Hathaway, “Multiphonon Raman Spectrum of Silicon,” Physical Review B, 7(8), 3685–3697 (1973). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.7.3685

K.J. Kingma, and R.J. Hemley, “Raman spectroscopic study of microcrystalline silica,” American Mineralogist, 79(3-4), 269 273 (1994). https://pubs.geoscienceworld.org/msa/ammin/article-pdf/79/3-4/269/4209223/am79_269.pdf

G.E. Walrafen, Y.C. Chu, and M.S. Hokmabadi, “Raman spectroscopic investigation of irreversibly compacted vitreous silica,” The Journal of Chemical Physics, 92(12), 6987–7002 (1990). https://doi.org/10.1063/1.458239

B. Champagnon, C. Martinet, M. Boudeulle, D. Vouagner, C. Coussa, T. Deschamps, and L. Grosvalet, “High pressure elastic and plastic deformations of silica: in situ diamond anvil cell Raman experiments,” Journal of Non-Crystalline Solids, 354(2-9), 569–573 (2008). https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2007.07.079

Sh.B. Utamuradova, H.J. Matchonov, Zh.J. Khamdamov, and H.Yu. Utemuratova, “X-ray diffraction study of the phase state of silicon single crystals doped with manganese,” New Materials, Connections Oath Applications, 7(2), 93-99 (2023). http://jomardpublishing.com/UploadFiles/Files/journals/NMCA/v7n2/Utamuradova_et_al.pdf

Kh.S. Daliev, Sh.B. Utamuradova, J.J. Khamdamov, M.B. Bekmuratov, “Structural Properties of Silicon Doped Rare Earth Elements Ytterbium,” East Eur. J. Phys. (1), 375-379 (2024). https://doi.org/10.26565/2312-4334-2024-1-37

Опубліковано
2024-12-08
Цитовано
Як цитувати
Далієв, Х. С., Утамурадова, Ш. Б., Хамдамов, Д. Д., Бекмуратов, М. Б., Норкулов, Ш. Б., & Юлдошев, У. М. (2024). Зміни структури та властивостей кремнію під час легування ітербієм: результати комплексного аналізу. Східно-європейський фізичний журнал, (4), 240-249. https://doi.org/10.26565/2312-4334-2024-4-24

Найбільш популярні статті цього автора (авторів)