Одновимірне масштабування зображення за допомогою відбиваючої рентгенівської маски

doi:10.26565/2222-5617-2022-37-02

В.С. Чумак Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут» Україна, 61002, м. Харків, вул. Кирпичова, 2 https://orcid.org/0000-0002-7268-1103
С. Передков Max-Planck-Institute Für Chemische Energiekonversion; Stiftstrasse 34 – 36, 45470 Mülheim an der Ruhr, Germany, Nordrhein-Westfalen https://orcid.org/0000-0002-5816-9015
В.В. Кондратенко Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут» Україна, 61002, м. Харків, вул. Кирпичова, 2 https://orcid.org/0000-0002-9194-9304
І.А. Копилець Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут» Україна, 61002, м. Харків,вул. Кирпичова, 2 https://orcid.org/0000-0002-8906-5155
Ю.П. Першин Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут» Україна, 61002, м. Харків,вул. Кирпичова, 2 https://orcid.org/0000-0001-9092-0078

DOI: https://doi.org/10.26565/2222-5617-2022-37-02

Ключові слова: рентгенівське багатошарове дзеркало, відбивна рентгенівська маска, стиснення зображення

Анотація

У роботі розглянуто питання мініатюризації шаблонних зображень з використанням рентгенівського випромінювання. Метод зменшення оснований на тому, що рентгенівське випромінювання направляють на певний шаблон, шо відбиває рентгенівське випромінювання, під гострим кутом та реєструють одновимірно стиснене зображення на площині, не паралельній площині шаблону. Перевагою такого методу стиснення зображень є відносна простота в його реалізації. В роботі запропоновано застосування рентгенівських багатошарових дзеркал як відбиваючих рентгенівських масок (ВРМ) для одновимірного стиснення зображень. Контроль структурних параметрів багатошарових дзеркал проводився на ретгенівському дифрактометрі ДРОН-3М. Шаблон ВРМ було сформовано методом напилення поглинаючого шару WC товщиною ~0,2 мкм через певний трафарет на поверхню багатошарового дзеркала. Проведено випробування ВРМ із дзеркалами на основі пари матеріалів WC/Si у синхротронному випромінюванні (l~3,5 нм). Отримано 14-кратне стиснення відбивних сегментів ВРМ розміром ~50 мкм. Теоретично показана принципова можливість отримання стиснення відбиваючих сегментів до субмікронних розмірів.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

1. N. Fu, Y. Liu, X. Ma, and Z. Chen, Microelectron. Manuf., 2, 19020202 (2019). https://doi.org/10.33079/jomm.19020202
2. Q. Lin, T. Hisamura, N. Chong, and J. Chang, Proc. SPIE, 11609(116090V) (2021). https://doi.org/10.1117/12.2584288
3. I. Mohacsi, I. VaРСiainen, B. Rösner, M. Guizar-Sicairos,
V.A. Guzenko, I. McNulty, R. Winarski, M.V. Holt, and C. David, , Scientific Reports, 7, 43624 (2017). https://doi. org/10.1038/srep43624
4. M. Kördel, A. Dehlinger, C. Seim, U. Vogt, E. Fogelqvist,
J.A. Sellberg, H. Stiel, and H.M. Hertz, Optica, 7(6), 658- 674 (2020). https://doi.org/10.1364/OPTICA.393014
5. L. Jiang, B. Verman, B. Kim, Y. Platonov, Z. Al-Mosheky, R. Smith, N. Grupido, The Rigaku Journal, 18(2), 13-22 (2001).
6. J. Zhu, Q. Huang, H. Li, Y. Tu, Z. Song, L. Pan, L. Jiang, X. Wang, F. Wang, Z. Zhang, Z. Wang, L. Chen, Proc. SPIE, 7995(79952R) (2011). https://doi.org/10.1117/12.888275
7. S. Rahn, A. Kloidt, U. Kleineberg, B. Schmiedeskamp,
K. Kadel, W.K. Schomburg, J. Hormes, U. Heinzmann,, Proc. SPIE, 1742, 585-592 (1992). https://doi. org/10.1117/12.140591
8. S. Mardix, A.R. Lang, Rev. Sci. Instrum., 50(4), 510-512 (1979). https://doi.org/10.1063/1.1135862
9. I.F. Mikhailov, A.A. Baturin and A.I. Mikhailov, “Analyzing Materials Using Joint X-ray Fluorescence and Diffraction Spectra“, Cambridge Scholars Publishing, (2020), 237 с.
10. C.P. Jensen, K.K. Madsen, and F.E. Christensen, Exp. Astron., 20, 93-103 (2005). https://doi.org/10.1007/s10686- 006-9022-9
11. Jan Vitásek, Jan Látal, Jan Skapa, Petr Koudelka, František Hanáček, Petr Šiška, Vladimír Vašinek, 2011 34th International Conference on Telecommunications and Signal Processing, (18-20 August 2011, Budapest, Hungary) https:// doi.org/10.1109/TSP.2011.6043762
12. L. Wang, T. Christenson, Y.M. Desta, R.K. Fettig, and R.K. Fettig, J. Microlith., Microfab., Microsyst., 3(3), 423-428 (2004). https://doi.org/10.1117/1.1753271