Регульований від'ємний диференціальний опір в мемристорах SnO2:Co на p-Si

  • Джамоліддін X. Муродов Ташкентський державний технічний університет імені Іслама Карімова, Ташкент, Узбекистан; Центр розвитку нанотехнологій Національного університету Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0009-0006-3088-4881
  • Шавкат У. Юлдашев Центр розвитку нанотехнологій, Національний університет Узбекистану, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0000-0002-2187-5960
  • Азамат О. Арсланов Національний університет Узбекистану імені Мірзо Улугбека, Ташкент, Узбекистан https://orcid.org/0009-0000-4817-8770
  • Маргуба С. Міркамілова Ташкентський державний технічний університет імені Іслама Карімова, Ташкент, Узбекистан
  • Уткур Е. Джураєв Ташкентський державний технічний університет імені Іслама Карімова, Ташкент, Узбекистан
Ключові слова: легування кобальтом SnO2, мемристор, комутація з негативним диференціальним опором, USP

Анотація

У цьому дослідженні досліджується явище від'ємного диференціального опору (ОДО) у мемристорах на основі діоксиду олова (SnO2:Co), легованого кобальтом, виготовлених на кремнієвих підкладках p-типу. За допомогою ультразвукового розпилювального піролізу (USP) тонкі кристалічні плівки SnO2:Co були нанесені на підкладки p-Si з тонким шаром рідного SiO2. Отримані мемристорні пристрої демонструють відтворюване біполярне резистивне перемикання між високоомним (HRS) та низькоомним (LRS) станами. Ключові висновки включають спостереження чіткої області NDR (від’ємного диференціального опору) на вольт-амперних (ВАХ), зокрема в діапазоні позитивної напруги приблизно від +3 В до +4 В. У цій області NDR струм зменшується, незважаючи на збільшення напруги, що є характерною ознакою цього ефекту. Така поведінка пояснюється захопленням та перерозподілом заряду в матеріалі Co:SnO2. Постійна та відтворювана природа спостережуваного ефекту NDR свідчить про потенціал мемристорів SnO2:Co для застосування в передових технологіях пам’яті та комутації. Ця робота сприяє розумінню механізмів резистивного перемикання в тонких плівках SnO2, легованих кобальтом, які є перспективними матеріалами для пристроїв пам’яті наступного покоління.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

X.B. Yan, et al., “Bipolar Resistive Switching Performance of The Nonvolatile Memory Cells Based on (AgI)0.2(Ag2MoO4)0.8 Solid Electrolyte Films,” J. Appl. Phys. 106, 054501 (2009). https://doi.org/10.1063/1.3211293

K. Kang, W. Hu, and X. Tang, “Halide Perovskites for Resistive Switching Memory,” J. Phys. Chem. Lett. 12, 48, 11673 11682 (2021). https://doi.org/10.1021/acs.jpclett.1c03408

W. Li, et al., “High On/Off Ratio Organic Resistive Switching Memory Based on Carbazolyl Dicyanobenzene and a Polymer Composit: The Journal of Phys. Chem. C, 126(30), 12897–12905 (2022). http://dx.doi.org/10.1021/acs.jpcc.2c03641

D. Ielmini, “Resistive Switching Memories Based on Metal Oxides: Mechanisms, Reliability and Scaling,” Semicond. Sci. Technol. 31, 063002 (2016). http://dx.doi.org/10.1088/0268-1242/31/6/063002

F.M. Simanjuntak, D. Panda, K.H. Wei, and T.Y. Tseng, “Status and Prospects of ZnO-Based Resistive Switching Memory Devices,” Nanoscale Research Letters, 11, 368 (2016). http://dx.doi.org/10.1186/s11671-016-1570-y

Sh. Abdullaev, D.J. Lee, Sh. Rano, and Sh.U. Yuldashev, “Negative Differential Resistance Effect in ZnMgO Memristor with SiO2 Thin Oxide Layer on p-Type Silicon,” Semiconductors Physics and Microelectronics, (2020). https://uzjournals.edu.uz/semiconductors/vol2/issue_2.html.

P.D. Walke, et al., “Memristive Devices from CuO Nanoparticles,” Nanomaterials, 10(9), 1677 (2020). https://doi.org/10.3390/nano10091677

K. Bandopadhyay, K.N. Prajapati, and J. Mitra, “Resistive Switching in Individual ZnO Nanorods: Delineating The Ionic Current By Photo-Stimulation,” Nanotechnology, 29, 105701 (2018). https://doi.org/10.1088/1361-6528/aaa63f

S.S. Li, and Y.K. Su, “Oxygen-Vacancy Induced Resistive Switching Effect In Mn-Doped ZnO Memory Devices,” Physica Status Solidi rrl, 13(2), 1800453 (2019). http://dx.doi.org/10.1002/pssr.201800453

Цитування

Defect-engineered resistive switching and NDR behavior in Mn-doped SnO2 memristors
Murodov Jamoliddin X., Yuldashev Shavkat U., Arslanov Azamat O., Botirova Noiba U., Khudoykulov Javohir Sh. & Sharipova Ra’no Sh. (2026) Journal of Materials Science: Materials in Electronics
Crossref

Resistive Switching Behavior of SnO₂/ZnO Heterojunction Thin Films for Non-Volatile Memory Applications
Murodov Jamoliddin X. , Yuldashev Shavkat U., Arslanov Azamat O., Botirova Noiba U., Xudoyqulov Javohir Sh., Sharipova Ra’no Sh., Nusretov Rafael A., Nebesniy Andrey A. & Pirimmatov Mukhammad P. (2025) East European Journal of Physics
Crossref

Mg-Induced Enhancement of Memristive Switching in SnO₂ Thin Films
Murodov Jamoliddin X., Yuldashev Shavkat U., Arslanov Azamat O., Botirova Noiba U., Xudoyqulov Javohir Sh., Mirkamilova Marguba S., Qodirova Inobat Q. & Ximmatqulov Odilboy X. (2026) East European Journal of Physics
Crossref

Magnetically Tunable Resistive Switching in Mn-Doped SnO2 Thin Films
Murodov Jamoliddin X., Yuldashev Shavkat U., Arslanov Azamat O., Botirova Noiba U., Nusretov Rafael A. & Khudoykulov Javohir Sh. (2026) Crystal Growth & Design
Crossref

Опубліковано
2025-06-09
Цитовано
Як цитувати
МуродовД. X., Юлдашев, Ш. У., Арсланов, А. О., Міркамілова, М. С., & Джураєв, У. Е. (2025). Регульований від’ємний диференціальний опір в мемристорах SnO2:Co на p-Si. Східно-європейський фізичний журнал, (2), 211-214. https://doi.org/10.26565/2312-4334-2025-2-22

Найбільш популярні статті цього автора (авторів)