Електричні та фотоелектричні властивості гетеропереходів МоOx/n-Cd1-хZnхTe
Анотація
У роботі представлено результати досліджень оптичних і електричних властивостей напівпровідникових гетеропереходів МоOx/n-Cd1-хZnхTe виготовлених нанесенням плівок MoOx на попередньо поліровану поверхню пластин n-Cd1-хZnхTe (розміром 5 × 5 × 0,7 мм3) в універсальній вакуумній установці Lеybold - Heraeus L560 за допомогою реактивного магнетронного розпилення мішені чистого Mo. Такі дослідження мають велике значення для подальшої розробки високоефективних приладів на основі гетеропереходів для електроніки і оптоелектроніки. Виготовлені гетеропереходи MoOx/n-Cd1-хZnхTe володіють великою висотою потенціального бар’єру при кімнатній температурі (φ0 = 1.15 еВ), яка значно перевищує аналогічний параметр для гетеропереходу MoOx/n-CdTe (φ0 = 0.85 еВ). Експериментально визначений температурний коефіцієнт зміни висоти потенціального бар’єра становив d(φ0)/dT =-8.7·10-3еВ/K, даний параметр більший у чотири рази від температурного коефіцієнта зміни висоти потенціального бар’єра для гетероструктур MoOx/n-CdTe. Більше значення висоти потенціального бар’єру гетеропереходу MoOx/n-Cd1-xZnxTe обумовлене формуванням електричного диполя на гетерограниці, через збільшення концентрації поверхневих станів в порівнянні з гетероструктурою MoOx/n-CdTe, а це очевидно пов’язано з наявністю атомів цинку в області просторового заряду та на металургійній межі поділу гетерограниці. В гетеропереходах MoOx/n-Cd1-xZnxTe домінуючими механізмами струмопереносу є генераційно-рекомбінаційний та тунельно-рекомбінаційний за участі поверхневих станів та тунельний при прямому зміщенні та тунелювання при зворотньому зміщенні. Встановлено, що гетеропереходи MoOx/n-Cd1-xZnxTe, які володіють такими фотоелектричними параметрами: напруга холостого ходу Voc = 0.33 В, струм короткого замикання Isc = 1.2 мА/см2 і коефіцієнт заповнення FF = 0.33 при інтенсивності освітлення 80 мВт/см2 є перспективними для виготовлення детекторів різного типу випромінювань. Виміряний і досліджений імпеданс гетеропереходу MoOx/n-Cd1-xZnxTe при різних зворотніх зміщеннях, що дало змогу визначити розподіл густини поверхневих станів та характеристичний час їх перезарядки, які зменшуються при зростанні зворотного зміщення.
Завантаження
Посилання
K. Zanio, Semiconductors and semimetals. (Academic Press, 1978).
R. Singh, R. Sivakumar, S.K. Srivastava, and T. Som, Applied Surface Science, 507, 144958 (2020), https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.144958.
Y. Sun, C.J. Takacs, S.R. Cowan, J.H. Seo, X. Gong, A. Roy, and A.J. Heeger, Advanced materials, 23(19), 2226-2230 (2011), https://doi.org/10.1002/adma.201100038.
C. Gretener, J. Perrenoud, L. Kranz, C. Baechler, S. Yoon, Y.E. Romanyuk, S. Buecheler, and A.N. Tiwari, Thin Solid Films, 535, 193-197 (2013), https://doi.org/10.1016/j.tsf.2012.11.110.
C. Battaglia, S.M. De Nicolas, S.De Wolf, X. Yin, M. Zheng, C. Ballif, and A. Javey, Applied Physics Letters, 104(11), 113902 (2014), https://doi.org/10.1063/1.4868880.
Zh.I. Alferov, Semiconductors, 32, 1-14 (1998), https://doi.org/10.1134/1.1187350.
V.V. Brus, Solar Energy, 86, 786-791 (2012), https://doi.org/10.1016/j.solener.2011.12.009.
H.A. Mohamed, Journal of applied Physics, 113(9), 093105 (2013), https://doi.org/10.1063/1.4794201.
E. Barsoukov, and J.R. Macdonald (Eds.). Impedance spectroscopy: theory, experiment, and applications. (John Wiley & Sons, 2018).
J. Chen, and N.G. Park, Advanced Materials, 31(47), 1803019 (2019), https://doi.org/10.1002/adma.201803019.
M.N. Solovan, V.V. Brus, P.D. Maryanchuk, M.I. Ilashchuk, and Z.D. Kovalyuk, Semicond. Sci. Technol. 30, 075006 (2015), https://doi.org/10.1088/0268-1242/30/7/075006.
L.N. Skvortsova, V.N. Batalova, K.A. Bolgaru, I.A. Artyukh, and A.A. Reger, Russian Journal of Applied Chemistry, 92(1), 159 165 (2019), https://doi.org/10.1134/S10704272190100221.
P.M. Gorley, Z.M. Grushka, V.P. Makhniy, O.G. Grushka, O.A. Chervinsky, P.P. Horley, Yu.V. Vorobiev, and J. Gonzalez Hernandez, Phys. Stat. Sol. (C), 5, 3622-3625 (2008), https://doi.org/10.1002/pssc.200780149.
V.V. Brus, M.I. Ilashchuk, Z.D. Kovalyuk, P.D. Maryanchuk, K.S. Ulyanytsky, Semicond. Sci. Technol. 26, 125006 (2011), https://doi.org/10.1088/0268-1242/26/12/125006.
E.H. Nicollian, and A. Goetzberger, Bell System Tech. J. 46, 1055-1133 (1967), https://doi.org/10.1002/j.1538-7305.1967.tb01727.x.
V.V. Brus, Semicond. Sci. Technol. 27, 035024 (2012), https://doi.org/10.1088/0268-1242/27/3/035024.
M.P. Hughes, K.D. Rosenthal, N.A. Ran, M. Seifrid, G.C. Bazan, and T.Q. Nguyen, Advanced Functional Materials, 28(32), 1801542 (2018), https://doi.org/10.1002/adfm.201801542.
M.M. Shehata, and K. Abdelhady, Applied Physics A, 124(9), 591 (2018), https://doi.org/10.1007/s00339-018-2006-6.
V.V. Brus, Semicond. Sci. Technol. 28, 025013 (2013), https://doi.org/10.1088/0268-1242/28/2/025013.
T. Kamas, V. Giurgiutiu, and B. Lin, Smart Materials and Structures, 24(11), 115040 (2015), https://doi.org/10.1088/0964-1726/24/11/115040.
Авторське право (c) 2021 Hryhorii Parkhomenko
Цю роботу ліцензовано за Міжнародня ліцензія Creative Commons Attribution 4.0.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).