Експериментальне дослідження режимів горіння і контракції тліючого розряду в CF4
Анотація
У цій роботі експериментально досліджено дифузний та контрагований режими тліючого розряду постійного струму в CF4. Знайдено, що при фіксованому тиску газу область існування контрагованого режиму обмежена з боку вузьких зазорів між електродами, ця межа має неоднозначний характер. Контрагований шнур з'являється в стратифікованому позитивному стовпі зі зростанням розрядного струму. Однак у вузьких зазорах між електродами подальше підвищення розрядного струму призводить до зменшення довжини позитивного стовпа (з одночасним значним розширенням негативного світіння), і контракція зникає. У випадку довгих розрядних проміжків збільшення струму не призводить до зникнення контракції.
Завантаження
Посилання
Aydil E.S. Plasma Etching, in Encyclopedia of Applied Physics. - VCH Publishers. – 1996. - Vol.14. - P. 171-197.
Shul R.J., Pearton S.J. Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques. – Berlin: Springer. - 2000. – 654 p.
Winters H.F., Coburn J.W. Surface science aspects of etching reactions// Surface Science Reports. – 1992. - Vol. 65, № 4-6. - P. 161-270.
Christophorou L.G., McCorkle D.L., Maxey D.V., Carter J.G. Fast gas mixtures for gas-filled particle detectors // Nuclear instruments and methods. – 1979. - Vol.163. – P. 141-149.
Christophorou L.G., Hunter S.R., Carter J.G., Mathis R.A. Gases for possible use in diffuse-discharge switches // Appl. Phys. Lett. – 1982. – Vol.41, No. 2. – P. 147-149.
Hunter S.R., Carter J.G., Christophorou L.G. Electron transport studies of gas mixtures for use in e-beam controlled diffuse discharge switches // J. Appl. Phys. – 1985. – Vol.58, No. 8. – P. 3001-3015.
Christophorou L.G., Olthoff J.K., Rao M.V.V.S. Electron interactions with CF4 // J. Phys. Chem. Ref. Data. – 1996. – Vol.25, No.5. – P. 1341-1388.
Hunter S.R., Carter J.G., Christophorou L.G. Electron motion in the gases CF4, C2F6, C3F8 and n-C4F10 // Phys. Rev. A. – 1988. – Vol.38, No. 1. – P. 58-69.
Christophorou L.G., Olthoff J.K. Electron interactions with plasma processing gasess: an update for CF4, CHF3, C2F6, and C3F8 // J. Phys. Chem. Ref. Data. – 1999. – Vol.28, No 4. – P. 967-982.
Vasenkov A.V. Monte Carlo simulation of electron transport in carbon tetrafluoride discharge plasma // J. Appl. Phys. – 2000. – Vol.88, No 2. – P. 626-634.
Torres I., Martinez R., Castano F. Electron-impact dissociative ionization of fluoromethanes CHF3 and CF4 // J. Phys. B: At. Mol. Opt. Phys. – 2002. – Vol.35, No 11. – P. 2423-2436.
Иванов В.В., Клоповский К.С., Лопаев Д.В., Прошина О.В., Рахимов А.Т., Рахимова Т.В., Словецкий Д.И., Волынец В.Н. Образование радикалов CF2 при диссоциации молекул CF4 электронным ударом в плазме газового разряда // Физика плазмы. – 1999. – т.25, № 8. – с. 716-724.
Coburn J.W., Chen M. Dependence of F atom density on pressure and flow rate in CF4 glow discharges as determined by emission spectroscopy // J. Vac. Sci. Technol. – 1981. – Vol.18, No 2. – P. 353-356.
Ishikawa I., Suganomata Sh., Matsumoto M. Attachment-enhanced instability in CF4 positive columns // / Jap. J. Appl. Phys. – 1987. – Vol.26, No 12. – P. 2140-2141.
Descoeudres A., Sansonnens L., Hollenstein Ch. Attachment-induced ionization instability in electronegative capacitive RF discharges // Plasma Sources Sci. Technol. – 2003. – Vol.12, No 2. – P. 152-157.
Scoro N., Malovic G., Maric D., Petrovic Z.Lj. Low-pressure breakdown and voltage-current characteristics of dc discharge in CF4 // Proc. 28th Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases, July 15-20, 2007, Prague, P. 1997-2000.
Bozin S.E., Goodyear C.C. Growth of ionization currents in carbon tetrafluoride and hexafluoroethane // Brit. J. Appl. Phys. – 1968. – Vol.1. – P. 327-334.
Nema R.S., Kulkarni S.V., Husain E. On calculation of breakdown voltages of mixtures of electron attaching gases // IEEE Trans. Electrical Insulation. – 1982. – Vol.17, No 5. – P. 434-440.
Lisovskiy V.A., Yakovin S.D., Yegorenkov V.D. Low-pressure gas breakdown in uniform dc electric field // J. Phys. D: Appl. Phys. – 2000. - Vol. 31, No. 21. - P. 2722 - 2730.
Елецкий А.В. Механизмы сжатия тлеющего разряда // Химия плазмы, Вып. 9 (под ред. Смирнова Б.М.). – М.: Энергоиздат, 1982. с. 151178.
Райзер Ю.П. Физика газового разряда. – М.: Наука, 1987. 592 с.
Lisovskiy V., Booth J.-P., Jolly J., Martins S., Landry K., Douai D., Cassagne V., Yegorenkov V. Modes of rf capacitive discharge in low-pressure sulfur hexafluoride // J. Phys. D: Appl. Phys. – 2007. - Vol. 40, No.22. - P. 6989–6999.
Lisovskiy V., Booth J.-P., Landry K., Douai D., Cassagne V., Yegorenkov V. Rf discharge dissociative mode in NF3 and SiH4 // J. Phys. D: Appl. Phys. – 2007. - Vol.40, No. 21. - P. 6631–6640.
Christophorou L.G., Olthoff J.K. Fundamental electron interactions with plasma processing gases. New York: Kluwer Academic, 2004. – 783 p.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
