Структура, фазовий склад та модель росту аморфних багатошарових рентгенівських дзеркал W-Si, виготовлених методом магнетронного розпилу
Ключові слова:
багатошарове рентгенівське дзеркало, аморфне покриття, перемішування, густина, склад
Анотація
Методами рентгенівської дифрактометрії та рентгенівської рефрактометрії (λ = 0,154 нм) досліджені структура та фазовий склад багатошарових рентгенівських дзеркал (БРД) W/Si, виготовлених методом магнетронного розпилення. Встановлено, що в результаті взаємодії компонентів у багатошаровій системі на міжфазних межах формуються асиметричні силіцидні прошарки неоднакового складу та товщини. Зроблена оцінка густини кожного шару БРД W/Si. Запропонована модель будови БРД W/Si.
Завантаження
##plugins.generic.usageStats.noStats##
Посилання
1. Uspenskii Yu. A., Levashov V. E., Vinogradov A. V., Fedorenko A. I., Kondratenko V. V., Pershin Yu. P., Zubarev E. N., and Fedotov V. Yu. High-reflectivity multilayer mirrors for a vacuum-ultraviolet interval of 35–50 nm // Opt. Let. — 1998. — Vol. 23, No. 10. — P. 771–773.
2. Zubarev E. N., Zhurba A. V., Kondratenko V. V., Pinegyn V. I.,. Sevryukova V. A, Yulin S. A., Feigl T., Kaiser N. The structure, diffusion and phase formation in Mo/Si multilayers with stressed Mo layers // Thin Solid Films. — 2007. — Vol. 515, No. 17. — P. 7011–7019.
3. Windt D. L., Christensen F. E., Craig W. W., Hailey C., Harrison F. A., Jimenez-Garate M., Kalyanaraman R., and Mao P. H. Growth, structure, and performance of depth-graded W/Si multilayers for hard x-ray optics // J. Appl. Phys. — 2000. — Vol. 88, No. 1. — P. 460–470.
4. Shih W. C. and Stobbs W. M. The measurement of the roughness of W/Si multilayers using the Fresnel method // Ultramicroscopy. — 1990. — Vol. 32, No. 3. — P. 219–239.
5. Petford-Long A. K., Stearns M. B., Chang C.-H., Nutt S. R., Stearns D. G., Ceglio N. M., and Hawryluk A. M. High-resolution electron microscopy study of x-ray multilayer structures // J. Appl. Phys. — 1987. — Vol. 61, No. 4. — P. 1422–1428.
6. Kessels M. J. H., Verhoeven J., Tichelaar F. D., Bijkerk F. Si adhesion interlayer effects in hydrogen passivated Si/W soft X-ray multilayer mirrors // Surf. Sci. — 2006. — Vol. 600, No. 6. — P. 1405–1408.
7. Hasan M. M., Highmore R. J. and Somekh R. E. The uhv deposition of short-period multilayers for X-ray mirror applications // Vacuum. — 1992. — Vol. 43, No. 1/2. — P. 55–59.
8. Свойства, получение и применение тугоплавких соединений. Справочник / Под ред. Т. Я. Косолаповой. — М.: «Металлургия», 1986. — 928 с.
9. Диаграммы состояния двойных металлических систем. Справочник / Под ред. Н. П. Лякишева. — М.: «Машиностроение», 2000, Т. 3, Книга 2. — С. 301–302.
10. Решетняк Е. Н., Малыхин С. В., Пер¬шин Ю. П., Пугачев А. Т. Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si // Вопросы атомной науки и техники. –– 2003. — № 3. — С. 161– 166.
11. Voorma H. J., Louis E., Koster N. B., Bijkerk F. and Spiller E. Characterization of multilayers by Fourier analysis of x-ray reflectivity // J. Appl. Phys. — 1997. — Vol. 81, No. 9. — P. 6112–6119.
12. Зеркальная рентгеновская оптика / Под ред. А. В. Виноградова. — Ленинград: «Маши¬ностроение», 1989. — 317 с.
13. Henke B. L., Gullikson E. M., and Davis J. C. X-ray interactions: photoabsorption, scattering, transmission, and reflection at E = 50–30000 eV, Z = 1–92 // Atomic data and nuclear tables. — 1993. — Vol. 54. No. 2. — P. 181–342.
14. Gautier J., Delmotte F., Bridou F., Ravet M. F., Varniere F., Roulliay M., Jerome A., Vickridge I. Characterization and optimization of magnetron sputtered Sc/Si multilayers for extreme ultraviolet optics // Appl. Phys. A. — 2007. — Vol. 88, No. 4. — P. 719–725.
15. Christensen F. E., Hornstrup A. and Schnopper H. W. High-resolution X-ray diffraction studies of multilayers // J. Appl. Cryst. — 1988. — Vol. 21, No. 3. — P. 252–257.
2. Zubarev E. N., Zhurba A. V., Kondratenko V. V., Pinegyn V. I.,. Sevryukova V. A, Yulin S. A., Feigl T., Kaiser N. The structure, diffusion and phase formation in Mo/Si multilayers with stressed Mo layers // Thin Solid Films. — 2007. — Vol. 515, No. 17. — P. 7011–7019.
3. Windt D. L., Christensen F. E., Craig W. W., Hailey C., Harrison F. A., Jimenez-Garate M., Kalyanaraman R., and Mao P. H. Growth, structure, and performance of depth-graded W/Si multilayers for hard x-ray optics // J. Appl. Phys. — 2000. — Vol. 88, No. 1. — P. 460–470.
4. Shih W. C. and Stobbs W. M. The measurement of the roughness of W/Si multilayers using the Fresnel method // Ultramicroscopy. — 1990. — Vol. 32, No. 3. — P. 219–239.
5. Petford-Long A. K., Stearns M. B., Chang C.-H., Nutt S. R., Stearns D. G., Ceglio N. M., and Hawryluk A. M. High-resolution electron microscopy study of x-ray multilayer structures // J. Appl. Phys. — 1987. — Vol. 61, No. 4. — P. 1422–1428.
6. Kessels M. J. H., Verhoeven J., Tichelaar F. D., Bijkerk F. Si adhesion interlayer effects in hydrogen passivated Si/W soft X-ray multilayer mirrors // Surf. Sci. — 2006. — Vol. 600, No. 6. — P. 1405–1408.
7. Hasan M. M., Highmore R. J. and Somekh R. E. The uhv deposition of short-period multilayers for X-ray mirror applications // Vacuum. — 1992. — Vol. 43, No. 1/2. — P. 55–59.
8. Свойства, получение и применение тугоплавких соединений. Справочник / Под ред. Т. Я. Косолаповой. — М.: «Металлургия», 1986. — 928 с.
9. Диаграммы состояния двойных металлических систем. Справочник / Под ред. Н. П. Лякишева. — М.: «Машиностроение», 2000, Т. 3, Книга 2. — С. 301–302.
10. Решетняк Е. Н., Малыхин С. В., Пер¬шин Ю. П., Пугачев А. Т. Рентгенографический анализ периодических пленочных композиций W/Si // Вопросы атомной науки и техники. –– 2003. — № 3. — С. 161– 166.
11. Voorma H. J., Louis E., Koster N. B., Bijkerk F. and Spiller E. Characterization of multilayers by Fourier analysis of x-ray reflectivity // J. Appl. Phys. — 1997. — Vol. 81, No. 9. — P. 6112–6119.
12. Зеркальная рентгеновская оптика / Под ред. А. В. Виноградова. — Ленинград: «Маши¬ностроение», 1989. — 317 с.
13. Henke B. L., Gullikson E. M., and Davis J. C. X-ray interactions: photoabsorption, scattering, transmission, and reflection at E = 50–30000 eV, Z = 1–92 // Atomic data and nuclear tables. — 1993. — Vol. 54. No. 2. — P. 181–342.
14. Gautier J., Delmotte F., Bridou F., Ravet M. F., Varniere F., Roulliay M., Jerome A., Vickridge I. Characterization and optimization of magnetron sputtered Sc/Si multilayers for extreme ultraviolet optics // Appl. Phys. A. — 2007. — Vol. 88, No. 4. — P. 719–725.
15. Christensen F. E., Hornstrup A. and Schnopper H. W. High-resolution X-ray diffraction studies of multilayers // J. Appl. Cryst. — 1988. — Vol. 21, No. 3. — P. 252–257.
Опубліковано
2016-06-24
Як цитувати
Першин, Ю. П. (2016). Структура, фазовий склад та модель росту аморфних багатошарових рентгенівських дзеркал W-Si, виготовлених методом магнетронного розпилу. Журнал фізики та інженерії поверхні, 1(1), 27–41. вилучено із https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/6091
Розділ
Статті
У відповідності з типовим шаблоном.
