Calculation of the generator for induction discharge initiation
Ключові слова:
ВЧ генератор, циліндричний індукційний розряд, тетрахлорид кремнію
Анотація
Представлено модернізований ВЧ генератор для збудження індукційного розряду, що працює на частоті 880 кГц в широкій області високочастотних потужностей і тисків газу. Проведено розрахунок резонансних кіл генератора на частоті 880 кГц. Розглянуто залежність дійсної і уявної складової імпедансу розряду від концентрації електронів для циліндричного індукційного розряду.
Завантаження
##plugins.generic.usageStats.noStats##
Посилання
Е.А. Kralkina. Inductive high-frequency low-pressure discharge and possibilities of optimizing the discharge-based plasma sources. Uspekhi Fizicheskikh Nauk, (2008), v.178, No 5, p.519-540 (in Russian),
Colpo P., Meziani T. and Rossi F. Inductively coupled plasmas: Optimizing the inductive-coupling efficiency large area source design. Journal of Vacuum Science and Technology (2005),v. 23, p.270-277.
Tuszewski M. Planar inductively coupled plasmas operated with low and high radio frequencies. IEEE Transactions on Plasma Science. (1999), v. 27, No 1, p.-68-69.
Piejak R.B., Godyak V.A. and Alexandrovich B.M. A Simple analysis of an inductive RF discharge // Plasma Sources Science and Technology. (1992), v.1, p. 179-186.
A.N. Deryzemlia, P.G.Kryshtal, D.G.Malykhin, V.I.Radchenko, B.M.Shirokov. Silicon hydrogen reduction from SiCl4 in the induction HF discharge. Proceedings of the 7th International Symposium on the theoretical and applied plasma chemistry, 2-6 September 2014, Pless, Ivanov region, Russia. (in Russian).
Colpo P., Meziani T. and Rossi F. Inductively coupled plasmas: Optimizing the inductive-coupling efficiency large area source design. Journal of Vacuum Science and Technology (2005),v. 23, p.270-277.
Tuszewski M. Planar inductively coupled plasmas operated with low and high radio frequencies. IEEE Transactions on Plasma Science. (1999), v. 27, No 1, p.-68-69.
Piejak R.B., Godyak V.A. and Alexandrovich B.M. A Simple analysis of an inductive RF discharge // Plasma Sources Science and Technology. (1992), v.1, p. 179-186.
A.N. Deryzemlia, P.G.Kryshtal, D.G.Malykhin, V.I.Radchenko, B.M.Shirokov. Silicon hydrogen reduction from SiCl4 in the induction HF discharge. Proceedings of the 7th International Symposium on the theoretical and applied plasma chemistry, 2-6 September 2014, Pless, Ivanov region, Russia. (in Russian).
Опубліковано
2015-07-01
Як цитувати
Deryzemlia, A. M., Kryshtal, P. G., Radchenko, V. I., Yevsiukov, O. I., Khizhnyak, D. A., & Shirokov, B. M. (2015). Calculation of the generator for induction discharge initiation. Вісник Харківського національного університету імені В. Н. Каразіна. Серія «Фізика», 1158(22), 18-22. вилучено із https://periodicals.karazin.ua/physics/article/view/7794
Номер
Розділ
Статті