Temperature effects in nanostructured carbon-copper films deposited by magnetron sputtering

  • A. A. Onoprienko Frantsevich Institute for Problems of Materials Science, National Academy of Sciences of Ukraine 3 Krzhyzhanovsky Str., 03142 Kiev, Ukraine
Ключові слова: плівка, аморфний вуглець, наноструктур, коалесценція, дифузія, електронна мікроскопія

Анотація

 Наноструктурні плівки в системі „вуглець-мідь” одержані методом магнетронного на постійному струмі розпилення мішені, складеної із графіту та міді, а також чистих мішеней із графіту та міді. Еволюцію структури при відпалі в інтервалі температур 300-600oC, а також при осадженні при температурі підкладку 600oC вивчали методами електронної просвічу вальної та скануючої мікроскопії, а також електронографії. Досліджували три типи тонких плівок після відпалу, а саме; змішана C Cu (тип 1), двошарова C/Cu (type 2) та наноструктурна (тип 3). Були досліджені також товсті плівки двох типів, одержані осадженням змішаної C+Cu плівки на підкладку при кімнатній температурі та наступним відпалом в вакуумі (тип 4), а також осадженням змішаної C+Cu плівки на наперед нагріту підкладку (тип 5).
 Осаджені плівки 1-го типу (які містили 8-22 aт. % Cu) мали аморфну структуру, в якій атоми міді були розподілені рівномірно по об'єму плівки. Відпал в інтервалі температур 300-600oC призвів до виділення міді в ансамбль частинок зі середнім розміром, який залежав від концентрації міді в плівці та температури відпалу, а також до розвинення процесу коалесценції частинок. Коалесценція протікала повільніше, ніж передбачено теорією. При відпалі при 600oC плівки 2-го типу шар міді розпався і на поверхні сформувався ансамбль острівців міді. В ансамблі острівців також розвинувся процес коалесценції, який протікав також повільніше, ніж передбачено теорією. Структура плівки 3-го типу виявилась стійкою до відпалу при 600oC протягом 15 годин. Специфічна структура вуглецевої плівки-матриці істотно уповільнювала дифузійну коалесценцію в ансамблі частинок міді в плівках 1-го та 2-го типів, та заблокувала коалесценцію в плівці 3-го типу.
 При відпалі плівки 4-го типу аморфна структура плівки зберігалася, і на її поверхні сформувались частинки міді. В плівці, осадженої на попередньо нагріту підкладку (тип 5), сформувалась стовпчаста структура вуглецевої матриці, а частинки міді сформувались як на поверхні плівки, та і в її об'ємі.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

1. C.C. Chen, F.C.N. Hong, Structure and properties of diamond-like carbon nanocomposite films containing copper nanoparticles, Appl. Surf. Sci., 94 (2005) 261-269.
2. J.M. Ting, H. Lee, DLC composite thin films by sputter deposition, Diamond Relat. Mater., 11 (2002) 1119-1123.
3. Gy. J. Kovács, G. Sáfrán, O. Geszti, T. Ujvári, I. Bertóti, G. Radnóczi, Structure and mechanical properties of carbon-nickel and CNx-nickel nanocomposite films, Surf. Coat. Technol., 180-181(2004) 331-334.
4. D.Y. Wang, K.W Weng, S.Y. Hwang, Study on metal-doped diamond-like carbon films synthesized by cathodic arc evaporation, Diamond Relat. Mater., 9 (2000) 1762-1766.
5. F.C. Fonseca, A.S. Ferlauto, F. Alvarez, G.F. Goya, R.F. Jardim, Morphological and magnetic properties of carbon-nickel nanocomposite thin films, J. Appl. Phys., 97 (2005) 0443131-7.
6. H. Hofsäss, H. Binder, T. Klumpp, E. Recknagel, Doping and growth of diamond-like carbon films by ion beam deposition, Diamond Relat. Mater., 3 (1993) 137-142.
7. P.A. Chen, Characteristics of copper-incorporated amorphous carbon film, Thin Sol. Films, 182 (1989) 261-263.
8. Y. Pauleau, F. Thièry, Deposition and characterization of nanostructured metal/carbon composite films, Surf. Coat. Technol., 180-181 (2004) 313-322.
9. J. Jiao, S. Seraphin, Carbon encapsulated nanoparticles of Ni, Co, Cu, and Ti, J. Appl. Phys., 83 (1998) 2442-2448.
10. T. Cabioc’h, A. Naudon, M. Jaouen, D. Thiaudiére, D. Babonneau, Co-sputtering C-Cu thin film synthesis: microstructural study of copper precipitates into a carbon matrix, Phil. Mag., B 79 (1999) 501-516.
11. A.A. Onoprienko, V.V. Artamonov, I.B. Yanchuk, Effect of magnetron discharge power on the resistivity and microstructure of carbon films. Surf. Coat. Technol., 200 (2006) 4174-4178.
12. A.A. Onoprienko, V.V. Artamonov, I.B. Yanchuk, Effect of deposition and anneal temperature on the resistivity of magnetron sputtered carbon films, Surf. Coat. Technol., 172 (2003) 189-193.
13. I.M. Lifshitz, V.V. Slyozov, The kinetics of precipitation from supersaturated solid solutions, J. Phys. Chem Sol., 19 (1961) 35-50.
14. Ya.E. Geguzin, Yu.S. Kaganovsky, V.V. Slyozov, Determination of the surface heterodiffusion coefficient by the method of mass transfer, J. Phys. Chem Sol., 30 (1969) 1173-1178.
15. A. A. Onoprienko, N. I. Danilenko, I. A. Kossko, Structure evolution on annealing of copper-doped carbon film, Thin Sol. Films, 515 (2007) 6672-6675.
Опубліковано
2018-10-10
Як цитувати
Onoprienko, A. A. (2018). Temperature effects in nanostructured carbon-copper films deposited by magnetron sputtering. Вісник Харківського національного університету імені В. Н. Каразіна. Серія «Фізика», (28), 53-62. https://doi.org/10.26565/2222-5617-2018-28-5