Тензоелектричні властивості опромінених електронами монокристалів n-Si

  • Сергій Луньов Луцький національний технічний університет, м. Луцьк, Україна https://orcid.org/0000-0003-0737-8703
  • Петро Назарчук Луцький національний технічний університет, м. Луцьк, Україна
  • Володимир Маслюк Інститут електронної фізики НАН України, м. Ужгород, Україна https://orcid.org/0000-0002-5933-8394
Ключові слова: монокристали n-Si, радіаційні дефекти, тензоопір, електронне опромінення, тензо-холл-ефект, інфрачервона Фур’є-спектроскопiя, анізотропія розсіяння

Анотація

Досліджено тензоопір при одновісному тискові для опромінених електронами монокристалів n-Si при кімнатній температурі. Досліджувані монокристали кремнію були леговані домішкою фосфору, концентрацією Nd=2,2·1016 см3, та опромінювались потоками електронів 5·1016 ел./см2, 1·1017 ел./см2 та 2·1017 ел./см2 з енергією 12 МеВ. Вимірювання питомого опору та сталої Холла проводились для одновісно деформованих вздовж кристалографічних напрямків [100] та [111] монокристалів n-Si. На основі вимірювань тензо-холл-ефекту та iнфрачервоної Фур’є-спектроскопiї були встановлені механізми виникнення тензорезистивного ефекту для досліджуваних монокристалів n-Si. Показано, що тензоопір для даних монокристалів визначається лише змінами рухливості електронів при деформації. При цьому концентрація електронів не залежить від одновісного тиску, оскільки глибокі рівні радіаційних дефектів, що належать комплексам VOi VOiP, будуть повністю іонізованими. Іонізація глибокого рівня еВ, що належить дефекту CiOi, за рахунок деформації не буде проявлятися та впливати на тензоопір n-Si. Встановлено, що анізотропією розсіяння електронів на утворених радіаційних дефектах, яка виникає при одновісному тискові вздовж кристалографічного напрямку [100], є причиною різної величини тензоопору опромінених різними потоками електронів монокристалів n-Si. Залежність величини тензоопору одновісно деформованих вздовж кристалографічного напрямку [111] монокристалів n-Si від потоку електронного опромінення пов’язана зі змінами радіуса екранування за рахунок зростання ефективної маси електронів. Вперше одержане при кімнатній температурі зростання величини тензоопору монокристалів n-Si за рахунок опромінення потоками електронів Ф ≥ 1·1017 ел./см2 може бути використане для конструювання сенсорів високого одновісного тиску на основі таких монокристалів n-Si з більшим значенням коефіцієнта тензочутливості відносно наявних аналогів. Такі сенсори матимуть підвищену радіаційну стійкість та широку сферу експлуатації.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

I. Maryamova, A. Druzhinin, E. Lavitska, I. Gortynska, and Y. Yatzuk, Sensors and Actuators A: Physical, 85, 153 (2000), https://doi.org/10.1016/S0924-4247(00)00376-9

A. Druzhinin, I. Ostrovskii, Y. Khoverko, and R. Koretskii, Materials Science in Semiconductor Processing, 40, 766-771 (2015), https://doi.org/10.1016/j.mssp.2015.07.015

T. Toriyama, Y. Tanimoto, and S. Sugiyama, Journal of microelectromechanical systems, 11, 605 (2002), https://doi.org/10.1109/JMEMS.2002.802905

A. Vlasov, S. Mileshin, T. Tsivinskaya, and V. Shakhnov, Problems of Perspective Micro- and Nanoelectronic Systems Development, 4, 190-196 (2018), http://www.mes-conference.ru/data/year2018/pdf/D007.pdf

P.I. Baranskii, and G.P. Gaidar, Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 19(1), 39 (2016), https://doi.org/10.15407/spqeo19.01.039, (in Ukrainian)

G.P. Gaidar, Physics and Chemistry of Solid State, 18(1), 34 (2017), https://doi.org/10.15330/pcss.18.1.34-40 (in Ukrainian).

Ya. Kost, I. Bolshakova, I. Duran, A. Vasyliev, L. Viererb, R. Konopleva, M. Radishevskiy, V. Chekanov, and F. Shurygin, in: 12th International Conference “Interaction of Radiation with Solids” (Belarusian state univ., Minsk, 2017), pp. 154-155.

I. Bolshakova, Ya. Kost, O. Makido, A. Shtabalyuk, and F. Shurygin, Visnyk of Lviv Polytechnic National University, Electronics, 734, 28 (2012), http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/16051. (in Ukrainian)

N. Kolin, Russian physics journal, 46(6), 543 (2003), https://doi.org/10.1023/B:RUPJ.0000008179.43324.96

F. Shimura, in: Semiconductor Silicon Crystal Technology, edited by F. Shimura (Academic Press, London, 2012).

Y. Sun, and A. Chmielewski, in: Applications of ionizing radiation in materials processing, edited by Y. Sun, and A. Chmielewski (Institute of Nuclear Chemistry and Technology, Warszawa, 2017).

A.V. Fedosov, S.V. Luniov, and S. A. Fedosov, Ukr. J. Phys. 56(1), 69 (2011), http://archive.ujp.bitp.kiev.ua/files/journals/56/1/560108p.pdf. (in Ukrainian)

G.P. Gaidar, and P.I. Baranskii, Physica B: Condensed Matter, 512, 6 (2017), https://doi.org/10.1016/j.physb.2017.02.015

L.I. Panasyuk, V.V. Kolomoets, B.B. Sus, V.N. Ermakov, S.A. Fedosov, and P.P. Trokhimchuk, in: 10th International Conference “Interaction of Radiation with Solids”, (Belarusian state univ., Minsk, 2013), pp. 137-139.

S.V. Luniov, V.V. Lyshuk, V.T. Maslyuk, and O.V. Burban, Latvian Journal of Physics and Technical Sciences, 56(5), 45 (2019), https://doi.org/10.2478/lpts-2019-0030

S. Luniov, A. Zimych, M. Khvyshchun, M. Yevsiuk, and V. Maslyuk, Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 6(12), 35 (2018), https://doi.org/10.15587/1729-4061.2018.150959. (in Ukrainian)

A.V. Fedosov, S.V. Luniov, and S.A. Fedosov, Semiconductors, 44(10), 1263, https://doi.org/10.1134/S1063782610100039

P.I. Baranskii, A.E. Belyaev, and G.P. Gaidar, in: Кінетичні ефекти в багатодолинних напівпровідниках [Kinetic Effects in Multi-Valley Semiconductors], (Naukova Dumka, Kyiv, 2019), pp. 448. (in Ukrainian)

Опубліковано
2021-09-28
Цитовано
Як цитувати
Луньов, С., Назарчук, П., & Маслюк, В. (2021). Тензоелектричні властивості опромінених електронами монокристалів n-Si. Східно-європейський фізичний журнал, (3), 37-42. https://doi.org/10.26565/2312-4334-2021-3-05