Тензоелектричні властивості опромінених електронами монокристалів n-Si
Анотація
Досліджено тензоопір при одновісному тискові для опромінених електронами монокристалів n-Si при кімнатній температурі. Досліджувані монокристали кремнію були леговані домішкою фосфору, концентрацією Nd=2,2·1016 см3, та опромінювались потоками електронів 5·1016 ел./см2, 1·1017 ел./см2 та 2·1017 ел./см2 з енергією 12 МеВ. Вимірювання питомого опору та сталої Холла проводились для одновісно деформованих вздовж кристалографічних напрямків [100] та [111] монокристалів n-Si. На основі вимірювань тензо-холл-ефекту та iнфрачервоної Фур’є-спектроскопiї були встановлені механізми виникнення тензорезистивного ефекту для досліджуваних монокристалів n-Si. Показано, що тензоопір для даних монокристалів визначається лише змінами рухливості електронів при деформації. При цьому концентрація електронів не залежить від одновісного тиску, оскільки глибокі рівні радіаційних дефектів, що належать комплексам VOi VOiP, будуть повністю іонізованими. Іонізація глибокого рівня еВ, що належить дефекту CiOi, за рахунок деформації не буде проявлятися та впливати на тензоопір n-Si. Встановлено, що анізотропією розсіяння електронів на утворених радіаційних дефектах, яка виникає при одновісному тискові вздовж кристалографічного напрямку [100], є причиною різної величини тензоопору опромінених різними потоками електронів монокристалів n-Si. Залежність величини тензоопору одновісно деформованих вздовж кристалографічного напрямку [111] монокристалів n-Si від потоку електронного опромінення пов’язана зі змінами радіуса екранування за рахунок зростання ефективної маси електронів. Вперше одержане при кімнатній температурі зростання величини тензоопору монокристалів n-Si за рахунок опромінення потоками електронів Ф ≥ 1·1017 ел./см2 може бути використане для конструювання сенсорів високого одновісного тиску на основі таких монокристалів n-Si з більшим значенням коефіцієнта тензочутливості відносно наявних аналогів. Такі сенсори матимуть підвищену радіаційну стійкість та широку сферу експлуатації.
Завантаження
Посилання
I. Maryamova, A. Druzhinin, E. Lavitska, I. Gortynska, and Y. Yatzuk, Sensors and Actuators A: Physical, 85, 153 (2000), https://doi.org/10.1016/S0924-4247(00)00376-9
A. Druzhinin, I. Ostrovskii, Y. Khoverko, and R. Koretskii, Materials Science in Semiconductor Processing, 40, 766-771 (2015), https://doi.org/10.1016/j.mssp.2015.07.015
T. Toriyama, Y. Tanimoto, and S. Sugiyama, Journal of microelectromechanical systems, 11, 605 (2002), https://doi.org/10.1109/JMEMS.2002.802905
A. Vlasov, S. Mileshin, T. Tsivinskaya, and V. Shakhnov, Problems of Perspective Micro- and Nanoelectronic Systems Development, 4, 190-196 (2018), http://www.mes-conference.ru/data/year2018/pdf/D007.pdf
P.I. Baranskii, and G.P. Gaidar, Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 19(1), 39 (2016), https://doi.org/10.15407/spqeo19.01.039, (in Ukrainian)
G.P. Gaidar, Physics and Chemistry of Solid State, 18(1), 34 (2017), https://doi.org/10.15330/pcss.18.1.34-40 (in Ukrainian).
Ya. Kost, I. Bolshakova, I. Duran, A. Vasyliev, L. Viererb, R. Konopleva, M. Radishevskiy, V. Chekanov, and F. Shurygin, in: 12th International Conference “Interaction of Radiation with Solids” (Belarusian state univ., Minsk, 2017), pp. 154-155.
I. Bolshakova, Ya. Kost, O. Makido, A. Shtabalyuk, and F. Shurygin, Visnyk of Lviv Polytechnic National University, Electronics, 734, 28 (2012), http://ena.lp.edu.ua:8080/handle/ntb/16051. (in Ukrainian)
N. Kolin, Russian physics journal, 46(6), 543 (2003), https://doi.org/10.1023/B:RUPJ.0000008179.43324.96
F. Shimura, in: Semiconductor Silicon Crystal Technology, edited by F. Shimura (Academic Press, London, 2012).
Y. Sun, and A. Chmielewski, in: Applications of ionizing radiation in materials processing, edited by Y. Sun, and A. Chmielewski (Institute of Nuclear Chemistry and Technology, Warszawa, 2017).
A.V. Fedosov, S.V. Luniov, and S. A. Fedosov, Ukr. J. Phys. 56(1), 69 (2011), http://archive.ujp.bitp.kiev.ua/files/journals/56/1/560108p.pdf. (in Ukrainian)
G.P. Gaidar, and P.I. Baranskii, Physica B: Condensed Matter, 512, 6 (2017), https://doi.org/10.1016/j.physb.2017.02.015
L.I. Panasyuk, V.V. Kolomoets, B.B. Sus, V.N. Ermakov, S.A. Fedosov, and P.P. Trokhimchuk, in: 10th International Conference “Interaction of Radiation with Solids”, (Belarusian state univ., Minsk, 2013), pp. 137-139.
S.V. Luniov, V.V. Lyshuk, V.T. Maslyuk, and O.V. Burban, Latvian Journal of Physics and Technical Sciences, 56(5), 45 (2019), https://doi.org/10.2478/lpts-2019-0030
S. Luniov, A. Zimych, M. Khvyshchun, M. Yevsiuk, and V. Maslyuk, Eastern-European Journal of Enterprise Technologies, 6(12), 35 (2018), https://doi.org/10.15587/1729-4061.2018.150959. (in Ukrainian)
A.V. Fedosov, S.V. Luniov, and S.A. Fedosov, Semiconductors, 44(10), 1263, https://doi.org/10.1134/S1063782610100039
P.I. Baranskii, A.E. Belyaev, and G.P. Gaidar, in: Кінетичні ефекти в багатодолинних напівпровідниках [Kinetic Effects in Multi-Valley Semiconductors], (Naukova Dumka, Kyiv, 2019), pp. 448. (in Ukrainian)
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).