Вплив діелектричної екранізації на фононні частоти і акустичні властивості металічних стекол на основі Pd

  • R. R. Koireng Урядовий коледж Самрата Притвіраджа Чаухана, Аджмер, Раджастан, Індія; Національний інститут освіти (NCERT), Нью-Делі, Індія https://orcid.org/0000-0003-3112-1078
  • P. C. Agarwal Регіональний інститут освіти (NCERT), Бхубанешвар, Одіша, Індія https://orcid.org/0000-0002-1166-2611
  • Alpana Gokhroo Урядовий коледж Самрата Притвіраджа Чаухана, Аджмер, Раджастан, Індія https://orcid.org/0000-0002-5871-0983
Ключові слова: об'ємне металеве скло, дисперсійні криві, діелектричний екран, еластичні властивості

Анотація

Криві дисперсії фононів для об'ємних металевих стекол (ОМС) Pd40Ni10Cu30P20 та Pd64Ni16P20 обчислюються для поздовжньої та поперечної частот фононів за допомогою простої моделі, наданої Бхатією та Сінгхом. Для поздовжнього режиму використовуються різні функції діелектричного екранування. Ми отримали значення силових констант β і δ, розрахованих з пружних констант матеріалу відповідних ОМС для обчислення кривих дисперсії. Обчислені криві дисперсії фононів демонструють належну поведінку як для поздовжньої, так і для поперечної мод. Поперечна швидкість звуку та поздовжні швидкості звуку з різним діелектричним екрануванням обчислюються в області довжини довжини хвилі з обчислених кривих дисперсії для обох ОМС. Положення першого піка коефіцієнта статичної структури передбачено з дисперсійних кривих. Значення швидкостей звуку та перший пік коефіцієнта статичної структури, розраховані на основі обчислених дисперсійних кривих, показують чудову узгодженість з експериментальними значеннями, що наявні в літературі для розглянутих ОМС, і результати можуть бути використані для кореляції інших властивостей ОМС.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

M. Telford, Materials Today, 7, 36-43 (2004), https://doi.org/10.1016/S1369-7021(04)00124-5.

W.H. Wang, Progress in Materials Science, 57, 487-656 (2012), https://doi.org/10.1016/j.pmatsci.2011.07.001.

M.M. Khan, A. Nemati, Z.U. Rahman, U.H. Shah, H. Asgar, and W. Haider, Critical Reviews in Solid State and Materials Science, 43, 233-268 (2018), https://doi.org/10.1080/10408436.2017.1358149.

A. Inoue, Z. M. Wang, and W. Zhang, Reviews on Advanced Materials Science, 18, 1-9 (2008), http://www.ipme.ru/e-journals/RAMS/no_11808/inoue.pdf.

L. Liu, A. Inoue, and T. Zhang, Materials, Transactions, 46, 376-378 (2005), https://doi.org/10.2320/matertrans.46.376.

Y.Q. Cheng, and E. Ma, Progress in Materials Science, 56, 379- 473 (2011), https://doi.org/10.1016/j.pmatsci.2010.12.002.

Y. Wu, H. Wang, Y. Cheng, X. Liu, X. Hui, T. Nieh, Y. Wang, and Z. Lu, Scientific Reports, 5, 12137 (2015), https://doi.org/10.1038/srep12137.

A.B. Bhatia, and R.N. Singh, Physical Review B, 31, 4751- 4758 (1985), https://doi.org/10.1103/PhysRevB.31.4751.

J. Hafner, Phyical Review B, 27, 678- 695 (1983), https://doi.org/10.1103/PhysRevB.27.678.

R. Babilas, D. Lukowiec, and L. Temleitner, Beilstein Journal of Nanotechnology, 8, 1174-1182 (2017), https://doi.org/10.3762/bjnano.8.119.

A. Gulenko, L.F. Chungong, J. Gao, I. Todd, A.C. Hannon, R.A. Martin, and J.K. Christie, Physical Chemistry Chemical Physics, 19, 8504-8515 (2017), https://doi.org/10.1039/C6CP03261C.

P.C. Agarwal, Physica B, 381, 239-245 (2006), https://doi.org/10.1016/j.physb.2006.01.522.

P.C. Agarwal, K.A. Aziz, and C.M. Kachhava, Acta Physica Hungarica, 72, 183-192 (1992), https://doi.org/10.1007/BF03054162.

A.M. Vora, and A.L. Gandhi, Armenian Journal of Physics, 12, 289-294 (2019), http://ajp.asj-oa.am/1078/1/AMV_ALG_Armenian_Journal_of_Physics_pdf.pdf

J. Hubbard, and J.L. Beeby, Journal of Physics C, 2, 556-574 (1969), https://doi.org/10.1088/0022-3719/2/3/318.

S. Takeno, and M. Goda, Progress of Theoretical Physics, 45, 331-352 (1971), https://doi.org/10.1143/PTP.45.331.

H.S. Chen, J.T. Krause, and E. Colemen, Journal of Non-Crystalline Solids, 18, 157-171 (1975), https://doi.org/10.1016/0022-3093(75)90018-6.

W.H. Wang, C. Dong, and C.H. Shek, Materials Science and Engineering: R: Reports 44, 45-89 (2004), https://doi.org/10.1016/j.mser.2004.03.001.

Опубліковано
2020-11-19
Цитовано
Як цитувати
Koireng, R. R., Agarwal, P. C., & Gokhroo, A. (2020). Вплив діелектричної екранізації на фононні частоти і акустичні властивості металічних стекол на основі Pd. Східно-європейський фізичний журнал, (4), 84-89. https://doi.org/10.26565/2312-4334-2020-4-11