Електричний двошаровий польовий транзистор з використанням тонкої SnS плівки в якості напівпровідникового каналу, а також діелектричного затвору з меду

  • Thomas Daniel Кафедра Фізики/Геології/Геофізики, Alex Ekwueme федеральний університет Ndufu-Alike Ікво, штат Ебоній, Нігерія https://orcid.org/0000-0002-5176-9181
  • Uno Uno Кафедра фізики федерального технологічного університету Мінна Мінна, P.M.B 065, штат Нігер, Нігерія https://orcid.org/0000-0001-6693-5894
  • Kasim Isah Кафедра фізики федерального технологічного університету Мінна, Мінна, штат Нігер, Нігерія https://orcid.org/0000-0002-9670-7697
  • Umaru Ahmadu Кафедра фізики федерального технологічного університету Мінна, Мінна, штат Нігер, Нігерія https://orcid.org/0000-0001-5966-0853
Ключові слова: тонка плівка SnS, польовий транзистор, мед, електричний подвійний шар, напівпровідник

Анотація

Дослідження було спрямоване на вивчення і застосування тонкої плівки SnS в якості напівпровідникового канального шару в збірці електричного двошарового польового транзистора, що має велике значення для успішної розробки нових концепцій пристрою, застосувань і зміни фізичних властивостей матеріалів, оскільки описані на сьогодні EDLFET (електричний двошаровий польовий транзистор) і модуляція електронних станів були реалізовані на оксидах, нітриді, вуглецевих нанотрубках і органічних напівпровідниках, при цьому рідко згадувались халькогеніди. Мед використовувався в якості гелеподібного електролітичного діелектричного затвора для підвищення рівня генерування відгуку електричного поля через шар напівпровідникового каналу SnS завдяки його здатності забезпечувати роботу при високому струмі і низькій напрузі за рахунок формування іонного гелеподібного розчину, подібного іонним гелям, які містять іонні рідини. Електричний двошаровий польовий транзистор був зібраний з використанням тонкої плівки сульфіду олова (SnS) як шару напівпровідникового каналу, та меду як діелектрика. Виміряна за допомогою LCR-вимірювача ємність медового затвору склала 2,15 мкФ/см2, тоді як діелектрична константа – 20,50. Напівпровідниковий шар наносили за допомогою хімічного осадження з парової фази за допомогою аерозолю і відпалювали на відкритому повітрі при 250° С у протравленій області приблизно на середині скляної підкладки 4×4 мм з FTO покриттям, при цьому область електрода на джерельному і стічному електроді обмежувалася травленням і маскувавнням на обох кінцях підкладки. Іридій був використаний в якості електрода затвору, тоді як мідний дріт був замаскований у джерельній та стічній області для створення контакту з електродом. Для визначення характеристик пристрою були використані профілометри, рентгенівська дифракція, скануючий електронний мікроскоп, метод енергодисперсійної рентгенівської спектроскопії, вимір ефекту Холла та цифрові мультиметри. Було виявлено, що тонка плівка SnS є полікристалічною, такою, що складається з елементів Sn і S з дрібними зернами, з оптичним діапазоном 1,42 еВ і товщиною 0,4 мкм. Транзистор працював у режимі провідності каналу p-типу в режимі збіднення з мінливістю польового ефекту - 16,67 см2/Vs, напругою відсікання - 1,6 V, струмом насичення зливу - 1,35 μA, коефіцієнтом трансдуктівності  - 809,61 nA/V та підпороговим значенням нахилу - 1,6 Vdec-1, що можна порівняти зі стандартними технічними характеристиками в електрониці. Позитивне зміщення затвора призводить до зрушення напруги відключення через захоплення заряду на межі поділу канал/діелектрик.

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Посилання

B.L. Theraja and A.K. Theraja, A Textbook of Electrical Technology. (S. Chand & company Limited, Ram Nagar New Delhi, 2007), pp.356-396.

S.F. Akande and B.J. Kwaha, Basic principles of Electronics. (Jos University press, Plateau State, Nigeria, 2007), pp. 23-35.

H. Du, Xi. Lin, Z. Xu and D. Chu, Springer. (2015), https://doi.org/10.1007/s10853-015-9121-y.

K. Po-Jui, C. Sheng-Po and C. Shoou-Jinn, Electronic Mater. Let. 10, 89-94 (2014), https://doi.org/10.1007/s13391-013-3112-4.

H. Yuan, H. Liu and H. Shimotani, Nano let. 11, 2601-2605 (2011), https://doi.org/10.1021/nl201561u.

P. Thiruramanathan, G.S. Hikku, R. Krishna-Sharman and M. Siva Shakthi, J. ChemTech Res. 1, 59-65(2015).

S.S. Hedge, A.G. Kunjomana, K.A. Chandrasekharam, K. Ramesh and M. Prashantha, Physica B. 406, 1143-1148 (2011), https://doi.org/10.1016/j.physb.2010.12.068.

R.C. Ordonez, C.K. Hayashi, C.M. Torres, J.I. Melcher, K. Nackieb, G. Severa and D. Garmire, Scientific reports. 7, 1-9 (2017), https://doi.org/10.1038/s41598-017-10043-4.

A. Sugaki, A. Kitakaze and H. Kitazawa, Sci. Rep. Tohoku Univ. 16, 199 (1985).

T.H. Patel, TOSURSJ. 4, 6-13 (2012).

B.J. Babu, A. Maldonado, S. Velumani and R. Asomoza, Mater. Sci. Eng. B. 10, 25-30 (2010).

I. Ilican, Y. Caglar and M. Caglar, J. Optoelectron. Adv. M. 10, 2578-2583(2008), https://www.researchgate.net/profile/Edwin_Ramirez2/publication/280492099_Properties_of_ZnO_thin_films_prepared_by_reactive_evaporatio/links/5609912608ae4d86bb11e2dd.pdf.

S.M. Ahmed, L.A. Latif and A.K. Salim, BRSJ. 37, 1-6(2011).

E. Guneri, F. Gode, C. Ulutas, F. Kirmizigul, G. Altindemir and C. Gumus, Chalcogenide Let. 7, 685-694 (2010), http://chalcogen.ro/685_Guneri.pdf.

J. Lv, Z. Zhou, F. Wang, C. Liu, W. Gong, J. Dai, X. Chen, G. He, S. Shi, X. Song, Z. Sun and F. Liu, Superlattice Microst. 61, 115-123 (2013).

A. Gomez, H. Martinez, M. Calixto-Rodriguez, D. Avellaneda, P.G. Reyes and O. Flores, J. Mater. Sci. Eng. 33(6), 352-358 (2013).

M. Safonova, P.P.K. Nair, E. Mellikov, R. Aragon, K. Kerm, R. Naidu and O. Volobujeva, P. Est. Acad. Sci. 64, 488-494 (2015), https://doi.org/10.3176/proc.2015.4.04.

W.S. Rasband, (2014), in: http://imagej.nih.gov/ij/1997-2014.

G. Julio, M.D. Merindano, M. Canals and M. Rallo, J. Anat. 212, 879-886 (2008), https://doi.org/10.1111/j.1469-7580.2008.00898.x.

T.S. Reddy and M.C. Kumar, RSC Adv. 6, 95680-95692 (2016), https://doi.org/10.1039/C6RA20129F.

Цитування

Tuning of SnS Thin Film Conductivity on Annealing in an Open Air Environment for Transistor Application
(2020) East European Journal of Physics
Crossref

Опубліковано
2019-10-02
Цитовано
Як цитувати
Daniel, T., Uno, U., Isah, K., & Ahmadu, U. (2019). Електричний двошаровий польовий транзистор з використанням тонкої SnS плівки в якості напівпровідникового каналу, а також діелектричного затвору з меду. Східно-європейський фізичний журнал, (3), 71-80. https://doi.org/10.26565/2312-4334-2019-3-09