PLASMA FILTERS IN TECHNIQUE OF THE VACUUM-ARC COMPOSITE COATING DEPOSITION
Анотація
The brief survey of devices for micro- and nanostructured composite coatings formation by deposition from a filtered cathodic arc plasma is given. The main attention is paid on the features specifying that how uniform is thickness and composition distribution of the coating deposited by use of those devices. Analysis of the publications showed that in respect of ability to obtain uniform coatings the wide-aperture single- and two-channel systems with acute-angled or “specular” magnetic fields are the most perspective. The setup which have been tasted rigidly in industrial conditions, and designed efficient setups equipped with the said systems are described as examples.
Завантаження
Посилання
Reshetnyak Ye. N. Strelnitsky V.E. Sb. Sintez uprochnyayushchich nanostructurnykh pokrytiy // Problems of atomic science and technology. Ser. Fizika radiatsionnykh povrezhdeniy i radiatsionnogo materialovedeniya. – 2008. – No.2(92).– P. 119-130.
Anders A. Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic condensation. – Springer Series on Atomic, Optical and Plasma Physics, 2008. – 540 p.
Aksenov I.I. Vakuumnaya duga v trozionnykh istochnikach plazmy. – Kharkov: NNTs KFTI, 2005. – 212p.
Aksenov I.I., Andreev A.A., Belous V.A., Strelnitsky V.E., Khoroshikh V.M. Vakuumnaya duga: istochniki plazmy, osazhdenie pokrytiyi, poverkhnostnoye modifitsirovaniye. – Kiev: Naukova Dumka, 2011. – 724 p.
Jilek M., Cselle T., Holumbar P., Morstein M., Veprek-Heijman M.G.J., Veprek S. Development of Novel Coating Technology by Vacuum Arc with Rotating Cathodes for Industrial Production of nc-(Al1-xTix)N/a-Si3N4 Superhard Nanocomposite Coatings for Dry, Hard Mashining // Plasma Chemistry and Plasma Processing. –2004.– Vol. 24.– No.4.– P. 493-510.
Zhitomirsky V.N., Boxman R.L., Goldsmith S., Grimberg I., Weiss B.Z. Superposition of two plasma beams produced in a vacuum arc deposition apparatus // Proc. of XVIIIth ISDEIV, Eindhoven, 1998. – P. 609-612.
Ben-Ami R., Zhitomirsky V.N., Boxman R.L., and Goldsmith S. Superposition of two plasma beams produced in a vacuum arc deposition apparatus // Plasma Sources Sci. Technol. – 1999.– Vol. 8.– P. 355–362.
Mukhin V.S., Budilov V.V., Shekhtman S.R., Kireev R.M. Nanostructured protective coatings. Kharkov nanostructural assembly. Vacuum nanotechnologies and equipment. – Kharkov: 2006.– P. 205-209.
Kunchenko Yu.V., Kunchenko V.V., Neklyudov I.M., Kartmazov G.N., Andreev A.A. Sloistye Ti-Cr-N-pokrytiya poluchayemye metodom vacuuvno-dugovogo osazhdeniya // VANT, ser. Fizika radiatsionnykh povrezhdeniy i radiatsionnogo materialovedeniya. – 2007. – No.2 (90). – P. 203-214.
Xing-zhao Ding, Zeng X.T., Liu Y.C., Fang F.Z., Lim G.C. Cr1−xAlxN coatings deposited by lateral rotating cathode arc for high speed machining applications // Thin Solid Films.– 2008.– Vol. 516. – P. 1710-1715.
Anders A., Pasaja N., Sansongsiri S. Filtered cathodic arc deposition with ion-species-selective bias // Review of scientific instruments. – 2007. – Vol. 78 – P. 1-5.
Anders S., Raoux S., Krishnan K., MacGill R.A., Brown I.G. Plasma distribution of cathodic arc deposition systems // J. Appl. Phys. – 1996. – Vol. 79. – No.9. – P.6785-6790.
Bilek M.M.M, Anders A., Brown I.G. Magnetic system for producing uniform coatings using a filtered cathodic arc // Plasma Sources Sci. Technol. – 2001. Vol.10. – P. 606–613.
Dai Hua, Shen Yao, Wang Jing, Xu Ming, Li Liuhe, Li Xiaoling, Cai Xun, and Chu Paul K. Fabrication for multilayered composite thin films by dual-channel vacuum arc deposition // Review of scientific instruments. – 2008. - Vol. 79. – P. 065104- 1 – 065104-5]
Int. Appl. No. PCT/IB98/01794 published under PCT No. WO 99/223396, October 24, 1997.
Takikawa Hirofumi, Tanoue Hideto. Review of cathodic arc deposition for preparing droplet-free thin films // IEEE Trans. on Plasma Sci. – 2007.– Vol. 35 – No. 4 – P. 992-999.
Takayuki Mashiki, Hiroki Hikosaka, Hideto Tanoue, Hirofumi Takikawa, Yushi Hasegawa, Makoto Taki, Masao Kumagai, Masao Kamiya. TiAlN film preparation by Y-shape filtered-arc-deposition system // Thin Solid Films. – 2008.– Vol. 516. – P. 6650–6654.
US Patent No.: US 6,663,755 B2. Dec. 16, 2003.
Aksenov I.I., Strel’nitskij V.E., Vasilyev V.V., Zaleskij D.Yu. Efficiency of magnetic plasma filters // Surf. Coat. Technol. – 2003. – Vol. 163-164.– P.118-127.
Arsenov I.I., Kuprin A.I., Lovino N.S., Ovcharenko V.D., Sobol O.V. Ocazhdenie nanostrukturnych pokrytij iz dvukhkomponentnykh potokov filtrovannoij vakuumno-dugovoij plazmy // Kharkovskaya nanotekhnologicheskaya assammbltya. T.1, “Vakuumnye tekhnologii i oborudovaniye, Kharkov, 2006”. – P. 173-178.
Kuprin A.I, Tolvachova G.N. Termichtskaya stabilnost mnogokomponentnykh nanostrukturnykh plyonok, osazhdyonnykh vakuumno-dugovym metodom // Sb. Trudov III mezhdunarodnoj konf. Fiziko-khimicheskie osnovy forvirovaniya i modifikatsii mikro- i nanostruktur, Kharkov, Ukraina, 2009. – P.193-195.
Aksenov I.I, Aksyonov D.S., Vasilyev V.V., Luchaninov A.A., Reshetnyak Ye.N., Strel’nitskij V.E. Vakuumno-dugovye istochniki plazmy s dvukhkanal’nym magnitnyv fil’trom // Kharkovskaya nanotekhnologicheskaya assambleya. T.1, “Vakuumnye tekhnologii i oborudovaniye, Kharkov, 2008”. – P. 257-265.
Aksyonov D.S., Aksenov I.I., Luchaninov A.A., Reshetnyak E.N., Strel’nitski V.E. Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma // VANT, ser. Vakuum, chistye materially, sverkhprovodniki. – 2009. – No.6 (18).– P. 268-272.
US Patent No. US 7,381,311. Jun. 3, 2008.
Aksenov I.I., Aksyonov D.S., Vasilyev V.V., Luchaninov A.A., Reshetnyak E.N., Strel'nitskij V.E. Two-Cathode Filtered Vacuum Arc Plasma Source // IEEE Trans. Plasma Sci. – 2009 – Vol. 37. – No.8. – P.1511-1516.
Aksyonov D.S., Aksenov I.I., Luchaninov A.A., Reshetnyak E.N., Strel´nitskij V.E. Deposition of Ti-Al-N Coatings Using Two-Channel T-Shaped Magnetic Filter // Proc. of XXIVth ISDEIV, Braunschweig, Germany, 2010. – P.494 − 496.
Aksenov I.I, Belous V.A. Vysokoproizvoditel’naya vakuumno-dugovaya ustanovka dlya osazhdeniz pokrytij // VANT, ser. Fizika radiatsionnykh povrezhdeniy i radiatsionnogo materialovedeniya. – 2008. – No.2 (92). – P.108-118.
Aksyonov D.S., Aksenov I.I., Belous V.A., Strel'nitskij V.E. Kontseptual’nye modeli vakuumno-dugovykh ustanovok dlya formirovaniya pokrytij iz mikro- i nanostrukturirovannykh kovpozitnykh materialov // Materialy XVII mezhdunarodnoj nauchno-technitsheskoj konferentsii “Vysokiye tekhnologii v promyshlennosti Rossii”, Moskva, Rossiya, 2011.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
