Особливості розвитку ударної іонізації в напівпровідникових сполуках InGaN та InAlN

Автор(и)

DOI:

https://doi.org/10.26565/2311-0872-2021-34-03

Ключові слова:

сполука, молярна частка, варизонний шар, ударна іонізація, напруженість електричного поля, поріг виникнення ударної іонізації, довжина “мертвої зони”, час затримки, розсіяння, сплавний потенціал

Анотація

Актуальність. Унікальне спектральне положення частот терагерцового діапазону визначає труднощі розвитку компактних твердотільних джерел терагерцового випромінювання. У більшості випадків відбувається витіснення робочих частот існуючих пристроїв у терагерцову частину спектру. Відомо, що ударна іонізація, особливо у своїй початковій стадії, є досить швидкоплинними процесом, який можна використати для покращення частотних властивостей приладів. Часові та просторові обмеження ударної іонізації у сполуках InGaN та InAlN потребують оцінки для визначення перспектив її використання для конструювання приладів у терагерцовому діапазоні.

Метою роботи є визначення величин часових та просторових затримок у розвитку ударної іонізації, що ініціюється електронами, у напівпровідникових сполуках InGaN та InAlN на початковому етапі виникнення ударної іонізації.

Методи і методологія. З використанням багаточастинкового методу Монте-Карло у наближенні однорідного електричного поля проведено моделювання електронного транспорту з врахуванням актуальних механізмів розсіяння, в тому числі розсіяння на сплавному потенціалі та ударної іонізації. Розглядався матеріал з однорідним розподілом складу та матеріал із залежністю складу від координати. Аналізувалися просторові розподіли актів ударної іонізації для ансамблю носіїв заряду, за якими визначалися характерні довжини локалізації ударної іонізації та затримки в часі її виникнення.

Результати. В сполуках InGaN та InAlN при напруженостях електричного поля більших 100 кВ/см часи виникнення ударної іонізації на початковій стадії її розвитку становлять менше 2 пс, а при вмісті відповідно Ga та Al менше 60 % можуть бути на порядок меншими. Довжини, на яких електрон набирає енергію для створення акту ударної іонізації у розглянутому випадку, складають близько 100- 200 нм і зменшуються із зростанням величини напруженості електричного поля. У випадку сполуки InAlN вони можуть стати менше 50 нм. На розміри області початкового набору енергії можна впливати, використовуючи варизонний шар, у якому ширина заборонено зони зменшується в бік аноду, проте найменші величини “мертвої зони” відповідають однорідним за складом матеріалам.

Висновки. Таким чином, ударну іонізацію на початковій стадії можна використовувати у надвисокачастотних приладах, зокрема як механізм релаксації енергії в терагерцовому діапазоні.

Біографії авторів

  • автор К. Г. Приходько, афіліація Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна

    майдан Свободи, 4, м. Харків, 61022, Україна

  • автор О. В. Боцула, афіліація Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна

    майдан Свободи, 4, м. Харків, 61022, Україна

  • автор В. О. Зозуля, афіліація Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна

    майдан Свободи, 4, м. Харків, 61022, Україна

Завантаження

Опубліковано

2021-06-30

Як цитувати

Особливості розвитку ударної іонізації в напівпровідникових сполуках InGaN та InAlN. (2021). Вісник Харківського національного університету імені В. Н. Каразіна. Серія «Радіофізика та електроніка», 34, 19-28. https://doi.org/10.26565/2311-0872-2021-34-03

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають