Стационарные режимы магнетронного разряда низкого давления
Анотація
Проведены экспериментальные исследования стационарных режимов, а также порогов погасания магнетронного разряда с управляемым по величине и топологии магнитным полем. Предложено объяснение полученных результатов на основании пространственноусредненной модели газового разряда с объемной ионизацией, адаптированной для магнетронного разряда.
Завантаження
##plugins.generic.usageStats.noStats##
Посилання
1. Muslim J., Vlacek J. A perspective of magnetron sputtering in surface engineering // Surface and Coating Technology. — 1999. — Vol. 112. — P. 162–169.
2. Kelly P. J., Arnell R. D. Magnetron sputtering: a review of recent development and application // Vacuum. — 2000. — Vol. 104, 063301.
3. Helmerson U., Lattemann M., Bohlmark J., Ehiasarian A. P., Gudmundsson J. Review. Ionized physical vapour deposition (IPVD): A review of technology and application // Thin Solid Films. — 2006. — Vol. 513. — P. 1–24.
4. Кузьмичёв А. И. Магнетронные распылительные системы. — Киев: «Аверс», 2008. — 244 с.
5. Musil J. Low-pressure magnetron sputtering // Vacuum. — 1998. — Vol. 50, No. 3–4. — P. 363–372.
6. Baranov O., Romanov M., Wolfer M., Kumar S., Zhong X., Ostrikov K. Low-pressure planar magnetron discharge for surface deposition and nanofabrication // Physics of Plasmas. — 2010. — Vol. 17, 053509.
7. Lieberman M. A., Lichtenberg A. J. Principals of Plasma Discharge and Material Processing, John Wiley and Sons, 1994. — P. 465–469.
8. Gudmundson J. T. and Lieberman M. A. Model and measurements a planar inductive oxygen discharge // Plasma Sources Sci. Technol. — 1998. — Vol. 7.— P. 1–12.
9. Яковін С. Д., Зиков О. В., Дудін С. В., Фаренік В. І., Юнаков М. М. Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428–239.
10. Window B., Sawides N. // J. Vac. Sci. Technol., A, Vac. Surf. Films. — 1986. — Vol. 4. — No. 196. — 453 p.
11. Kadles S., Musil J. Optimized magnetic field shape for low pressure magnetron sputtering // J. Vac. Sci. Technol. — A. — 1995. — Vol. 13, No. 2. — P. 389–393.
12. Sang-Hun Seo, Jung-Hwan In and Hong-Young Chang. Measurements of electron energy distribution functions and electron transport in the downstream region of an unbalanced de magnetron discharge // Plasma Sources Sci. Technol. — 2004. — Vol. 13. — P. 409–419.
13. Sheridan Т. Е., Goechner M. J., Goree J. Electron and ion transport in magnetron plasma // J. Vac. Sci. Technol. — A. — 1990. — Vol. 8, No. 3. — P. 1623–1626.
14. Lieberman M., Ashida S. //Plasma Sources Sci. Technol. — 1996 . — Vol. 5 . — P. 145–158.
15. Девидсон Р. Теория заряженной плазмы. — М.: Мир, 1978. — 216 c.
16. Kolev J., Bogaerts A., Gijbels R. Influence of electron recapture by the cathode upon the discharge characteristics in DC magnetrons // Phys. Rev. — E. — 2005. — Vol. 72, 056402.
17. Thornton I. A. Magnetron sputtering: basic physics and application to cylindrical magnetron // J. Vac. Sci. Technol. — 1978. — Vol. 15, No. 2. — P. 171–177.
18. Zagrebelnyy J. A, Zykov A. V., Glasnev M. V. Break-down of the magnetically insulated diode // Problems of Atomic Science and Technology. Series: Plasma Physics. — 2007. — Vol. 13. — No. 1. — P. 197–199.
19. Jamirzoev A., Yakovin S., Zykov A. Characteristics of discharge in crossed EH fields near breakdown curve in acceleration and plasma regime // Problems of Atomic Science and Technology. Series «Plasma Physics». — 2013.— Vol. 19. — No. 1. — P. 186–188.
20. Jamirzoev A., Yakovin S., Zykov A. Low pressure gas discharge in magnetically insulated diode // Problems of Atomic Science and Technology. Series: Plasma Physics. — 2015. — Vol. 21. — No. 1. — P. 259–262.
21. https://sites.google.com/site/magcad2
22. Дудин С. В., Положий К. И., Фареник В. И. Энергетическая цена иона в комбинированном индукционноемкостном ВЧ разряде // Письма в ЖТФ. — 1998. — Т. 24, № 22. — С. 33–38.
23. Denysenko I., Dudin S., Azarenkov N. Ion flux uniformity in inductively coupled plasma sources // Physics of Plasmas. — 2002. — Vol. 9, No. 11. — P. 4767–4775.
2. Kelly P. J., Arnell R. D. Magnetron sputtering: a review of recent development and application // Vacuum. — 2000. — Vol. 104, 063301.
3. Helmerson U., Lattemann M., Bohlmark J., Ehiasarian A. P., Gudmundsson J. Review. Ionized physical vapour deposition (IPVD): A review of technology and application // Thin Solid Films. — 2006. — Vol. 513. — P. 1–24.
4. Кузьмичёв А. И. Магнетронные распылительные системы. — Киев: «Аверс», 2008. — 244 с.
5. Musil J. Low-pressure magnetron sputtering // Vacuum. — 1998. — Vol. 50, No. 3–4. — P. 363–372.
6. Baranov O., Romanov M., Wolfer M., Kumar S., Zhong X., Ostrikov K. Low-pressure planar magnetron discharge for surface deposition and nanofabrication // Physics of Plasmas. — 2010. — Vol. 17, 053509.
7. Lieberman M. A., Lichtenberg A. J. Principals of Plasma Discharge and Material Processing, John Wiley and Sons, 1994. — P. 465–469.
8. Gudmundson J. T. and Lieberman M. A. Model and measurements a planar inductive oxygen discharge // Plasma Sources Sci. Technol. — 1998. — Vol. 7.— P. 1–12.
9. Яковін С. Д., Зиков О. В., Дудін С. В., Фаренік В. І., Юнаков М. М. Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428–239.
10. Window B., Sawides N. // J. Vac. Sci. Technol., A, Vac. Surf. Films. — 1986. — Vol. 4. — No. 196. — 453 p.
11. Kadles S., Musil J. Optimized magnetic field shape for low pressure magnetron sputtering // J. Vac. Sci. Technol. — A. — 1995. — Vol. 13, No. 2. — P. 389–393.
12. Sang-Hun Seo, Jung-Hwan In and Hong-Young Chang. Measurements of electron energy distribution functions and electron transport in the downstream region of an unbalanced de magnetron discharge // Plasma Sources Sci. Technol. — 2004. — Vol. 13. — P. 409–419.
13. Sheridan Т. Е., Goechner M. J., Goree J. Electron and ion transport in magnetron plasma // J. Vac. Sci. Technol. — A. — 1990. — Vol. 8, No. 3. — P. 1623–1626.
14. Lieberman M., Ashida S. //Plasma Sources Sci. Technol. — 1996 . — Vol. 5 . — P. 145–158.
15. Девидсон Р. Теория заряженной плазмы. — М.: Мир, 1978. — 216 c.
16. Kolev J., Bogaerts A., Gijbels R. Influence of electron recapture by the cathode upon the discharge characteristics in DC magnetrons // Phys. Rev. — E. — 2005. — Vol. 72, 056402.
17. Thornton I. A. Magnetron sputtering: basic physics and application to cylindrical magnetron // J. Vac. Sci. Technol. — 1978. — Vol. 15, No. 2. — P. 171–177.
18. Zagrebelnyy J. A, Zykov A. V., Glasnev M. V. Break-down of the magnetically insulated diode // Problems of Atomic Science and Technology. Series: Plasma Physics. — 2007. — Vol. 13. — No. 1. — P. 197–199.
19. Jamirzoev A., Yakovin S., Zykov A. Characteristics of discharge in crossed EH fields near breakdown curve in acceleration and plasma regime // Problems of Atomic Science and Technology. Series «Plasma Physics». — 2013.— Vol. 19. — No. 1. — P. 186–188.
20. Jamirzoev A., Yakovin S., Zykov A. Low pressure gas discharge in magnetically insulated diode // Problems of Atomic Science and Technology. Series: Plasma Physics. — 2015. — Vol. 21. — No. 1. — P. 259–262.
21. https://sites.google.com/site/magcad2
22. Дудин С. В., Положий К. И., Фареник В. И. Энергетическая цена иона в комбинированном индукционноемкостном ВЧ разряде // Письма в ЖТФ. — 1998. — Т. 24, № 22. — С. 33–38.
23. Denysenko I., Dudin S., Azarenkov N. Ion flux uniformity in inductively coupled plasma sources // Physics of Plasmas. — 2002. — Vol. 9, No. 11. — P. 4767–4775.
Опубліковано
2015-12-04
Як цитувати
Зыков, А. В., Дудин, С. В., & Яковин, С. Д. (2015). Стационарные режимы магнетронного разряда низкого давления. Журнал фізики та інженерії поверхні, 13(2), 264 -. вилучено із https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/4571
Розділ
Статті
У відповідності з типовим шаблоном.
