Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы

Автор(и)

  • В. В. Васильев Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • А. А. Лучанинов Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Е. Н. Решетняк Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • В. Е. Стрельницкий Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Г. Н. Толмачева Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Г. А. Прибытков Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
  • А. В. Гурских Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
  • М. Г. Криницын Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия

Анотація

Исследованы структура и фазовый состав катодных материалов системы Ti-Si, полученных спеканием смесей порошков титана, кремния и силицида титана Ti5Si3. Установлено, что спекание смесей Ti + Ti5Si3 позволяет получать качественные катодные материалы с содержанием кремния до 15 ат. %. Обнаружено, что в штатном режиме работы источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы возникают проблемы со стабильностью горения разряда, обусловленные возникновением дефектов на поверхности порошковых катодов. Использован способ подачи реакционного газа в вакуумную камеру через источник плазмы, что позволило добиться стабильной работы порошковых катодов при осаждении покрытий нитридов. В условиях использования высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложку получены покрытия системы Ti-Si-N. Исследовано влияние параметров осаждения на состав, структуру и свойства покрытий. Определены условия, позволяющие синтезировать наноструктурные покрытия с высокой твердостью.

Біографії авторів

  • автор В. В. Васильев, афіліація Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • автор А. А. Лучанинов, афіліація Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • автор Е. Н. Решетняк, афіліація Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • автор В. Е. Стрельницкий, афіліація Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Проф.
  • автор Г. Н. Толмачева, афіліація Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • автор Г. А. Прибытков, афіліація Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
    Н.С.
  • автор А. В. Гурских, афіліація Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
    Н.С.
  • автор М. Г. Криницын, афіліація Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
    Н.С.

Завантаження

Опубліковано

2015-12-04

Номер

Том 13 № 2 (2015): Фізична інженерія поверхні

Розділ

Статті

Ліцензія

У відповідності з типовим шаблоном.

Як цитувати

Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. (2015). Журнал фізики та інженерії поверхні, 13(2), 148 – 163. https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/4553

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають

1 2 > >>