The kinetics of phase formation in system MoSi2-W under heating at temperature 1500—1800 °C
Keywords:
сoating, silicide, diffusion, heat resistance, tungsten, molibden, niobium, silicon
Abstract
The kinetics of phase redistribution in the MoSi2-W system has been investigated in the temperature range 1500—1800 °С. Kinetic parameters for growth of low silicides (Mo, W)5Si3 and loss of the highest silicide MoSi2 were determined depending on the temperature of oxidation. It isthat stability of multicomponent and multiphase systems MoSі2-W exceeds stability system MoSі2-Mo and WSі2-W.
Downloads
Download data is not yet available.
References
Змий В. И., Ковтун Н. В., Глушко П. И., Руденький С. Г. Стабильность и жаростойкость силицидных покрытий на вольфраме и молибдене при температурах 1500—2000 °С // Порошковая металлургия. — 2003. — № 1/2. — С. 57—62.
Глушко П. И., Змий В. И., Семёнов Н. А., Широков Б. М. Стабильность силицидных покрытий на ниобии в условиях високотемпературного нагрева на воздухе при 1500— 2000 °С // Порошковая металлургия. — 2003. — № 3/4. — С. 55—59.
Нечипоренко Е. П., Петриченко А. П., Павленко Ю. Б. Защита металлов от коррозии // «Вища школа». — Харьков, 1985. — С. 112
Глушко П. И., Змий В. И., Семёнов Н. А., Широков Б. М. Стабильность силицидных покрытий на ниобии в условиях високотемпературного нагрева на воздухе при 1500— 2000 °С // Порошковая металлургия. — 2003. — № 3/4. — С. 55—59.
Нечипоренко Е. П., Петриченко А. П., Павленко Ю. Б. Защита металлов от коррозии // «Вища школа». — Харьков, 1985. — С. 112
Published
2017-07-05
How to Cite
Глушко, П. И., Журавлёв, А. Ю., Семёнов, Н. А., Хованский, Н. А., Широков, Б. М., Шиян, А. В., & Щербакова, В. В. (2017). The kinetics of phase formation in system MoSi2-W under heating at temperature 1500—1800 °C. Journal of Surface Physics and Engineering, 12(2), 219-222. Retrieved from https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/8599
Section
Статті
У відповідності з типовим шаблоном.