Nonequilibrium processes in contact of semiconductor - gas discharge plasma

Keywords: plasma contacts, hyperfine gas-discharge cell, distributed resistance, rectangular voltage stage, kinetics of current increase, kinetics of current decay

Abstract

Theoretically, the features of plasma contacts of a semiconductor in a hyperfine gas-discharge cell are considered, in particular, the kinetics of the growth of the carrier flux is considered when a rectangular voltage stage is included. A more complicated case is considered, in which there is a layer of distributed resistance in series with the layer of the photosensitive semiconductor, and also the case when the voltage applied to the gas-discharge cell has a more complex shape than the rectangular stage.

Downloads

Download data is not yet available.

Author Biography

З. Хайдаров, Fergana Polytechnic Institute

Scientist

References

Хайдаров З., Йулдашев Х. Т. Новый фотографический эффект в сверхтонкой газоразрядной ячейке с полупроводниковым электродом // Прикладная физика. – 2016. – № 5. – С. 75-80.

Хайдаров З., Йулдашев Х.Т. Высокочувствительная полупроводниковая ионизационная фотографическая камера для инфракрасного диапазона // Прикладная физика. – 2017. – № 1. – С. 65-68.

Касымов Ш. С., Парицкий Л. Г., Хайдаров З., Хамидов В. О., Отажонов С. М. О возможности усиления фототока плазмы газового разряда в преобразователях изображений ионизационного типа // Физическая инженерия поверхности. – 2010. – Т. 8, № 3. – С. 214-221.

Касымов Ш. С., Хайдаров З., Хамидов В. О., Йулдашев Х. Т., Отажонов С. М. Исследование влияния токового усиления на фотографические и выходные характеристики преобразователя изображений ионизационного типа // Физическая инженерия поверхности. – 2011. – Т. 9, № 4. – С. 376-379.

Агаронов Б. С., Зайналлы А. Х., Лебедева Н. Н., Парицкий Л. Г. О фотоэлектрических свойствах контакта полупроводник-плазма газового разряда // Деп. в ВИНИТИ № 3037-76. – 1976, Москва.

Published
2019-08-07
How to Cite
Хайдаров, З. (2019). Nonequilibrium processes in contact of semiconductor - gas discharge plasma. Journal of Surface Physics and Engineering, 3(2), 72 -. Retrieved from https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/13669