Вплив кута падіння пучка іонів на внутрішні напруження в осаджуваному покритті
Ключові слова:
вакуумно-дугове осадження покриттів, похилий пучок іонів, внутрішні напруженняАнотація
У моделі нелокального термопружного піка низькоенергетичного іона отримана формула для внутрішніх напружень в покритті, що осаджується з похилого пучка іонів у режимах постійного та імпульсного потенціалу. Припускається, що деформація при іонному бомбардуванні визначається щільністю дефектів, які породжуються первинним іоном, за виключенням дефектів, які видаляються в процесі іонного розпилення. Проведено розрахунок напружень в TiN покритті, що осаджується з потоку іонів Ti в режимі імпульсного потенціалу при різних кутах падіння іонів. Показано, що напруження при кутах падіння α ≠ 0 можуть бути як менше, так і більше напружень, що виникають при нормальному падінні іонів в залежності від величини потенціалу. Встановлено немонотонне поводження внутрішніх напружень зі зростанням кута падіння.
