От редколлегии

  • В. И. Фареник Харьковский национальный университет имени В. Н. Каразина Научный физико-технологический центр МОН и НАН Украины

Анотація

К 40-летию начала исследований в области плазменных технологий в микроэлектронике на физико-техническом факультете Харьковского университета

Завантаження

##plugins.generic.usageStats.noStats##

Біографія автора

В. И. Фареник, Харьковский национальный университет имени В. Н. Каразина Научный физико-технологический центр МОН и НАН Украины
К. ф.-м. н., с. н. с.

Посилання

1. Пикуль М. И. Нанесение тонких плёнок из плазмы металлов // Материалы юбилейной научно- технической конференции сотрудников Минского радиотехнического института. Минск, 1974 г.

2. Достанко А. П., Пикуль М. И., Ермолаев А. И., Рожков А. М., Сосипатров М. В., Фареник В. И. Изучение энергетических спектров ионов алюминия, образующихся в разряде Пеннинга // Сб. аннотаций ІV Всесоюзной конференции по физике низкотемпературной плазмы, т. 1, стр. 133, Киев, 1975.

3. Пикуль М. И., Достанко А. П., Дудко С. М., Сосипатров М. В., Фареник В. И. Применение разряда Пеннинга в парах металлов для осаждения пленок в вакууме // Тезисы докладов III Всесоюзной конференции по плазменным ускорителям, 14–16 мая, 1976, Минск.

4. Пикуль М. И., Ермолаев А. С., Холенков В. Ф., Рожков А. М., Фареник В. И. Плазменная очистка подложек интегральных схем // Тезисы докладов III Всесоюзной конференции по плазменным ускорителям, 14–16 мая, 1976, Минск.

5. Пикуль М. И., Ермолаев А. И., Фареник В. И. Экспериментальное исследование параметров плазмы в парах металлов в условиях формирования пленок // Республиканская научно-техническая конференция, февраль 1976, Минск.

6. Достанко А. П., Пикуль М. И., Рожков А. М., Фареник В. И. Использование электрических разрядов в парах металлов для осаждения пленок // Тезисы Всесоюзного совещания «Новые методы нанесения покрытий напылением», октябрь 1976, Ворошиловград.

7. Пикуль М. И., Рожков А. М., Красницкий В. И., Фареник В. И. Выбор оптимальных параметров плазмы в парах металлов при осаждении металлизации полупроводниковых ИС // Тезисы докладов республ. НТК «Комплексная миниатюризация и повышение качества РЭА», 1976, Минск.

8. Достанко А. П., Пикуль М. И., Рожков А. М., Сосипатров М. В., Фареник В. И. О возможности использования плазмы металлов в процессе осаждения тонких пленок // ЖTФ, № 2, 1977.

9. Достанко А. П., Красницкий В. И., Пикуль М. И., Рожков А. М., Фареник В. И. Модель разряда в скрещенных полях // Доклады АН БССР, т. XXI, № 8, 695, 1977.

10. «Харьковскому физтеху 50» // В. В. Власов, И. А. Гирка, Н. А. Азаренков, В. Д. Ходусов. — Х. : ООО «Издательство Майдан», 2012. — 188 с.
Опубліковано
2015-12-04
Як цитувати
Фареник, В. И. (2015). От редколлегии. Журнал фізики та інженерії поверхні, 13(2), 276 -. вилучено із https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/4572