Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів
Анотація
В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно- плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду; джерело іонів середніх енергій на базі розряду в схрещених ЕН полях; система імпульсної поляризації зразків. Було досліджено характеристики окремих плазмових модулів та показано можливість їх сумісної дії в процесах реактивного іонно-плазмового синтезу покриттів. Робочий діапазон параметрів багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи дозволяє в єдиному циклі проводити очистку та активацію поверхні, що обробляється, наносити металеві, діелектричні складнокомпозіційні та багатошарові покриття з унікальними властивостями.Завантаження
##plugins.generic.usageStats.noStats##
Посилання
1. Ian G. Brown, The Physics and Technology of Ion Sources: Second, Revised and Extended Edition, Wiley-VCH. - New York. - 2004.
2. Rius G., Llobet J., Esplandiu M. J., Sole L., Borrise X., Perez-Murano F., Microelectronic Engineering. - 2009. - Vol. 86. - 892 p.
3. Harold R. Kaufman, J. Vac. Sci. Technol. A . - 1985 . - Vol. 4. - 764 p.
4. Кузмичев А. И. Введение в физику и техни¬ку магнетронного распыления. - К. Аверс, 2008. - 244 с.
5. Sail I. Recent aspects concerning DC reactive magnetron sputtering of thin films:a review// Surf. Coat. Technol. - 2000. - Vol. 127. - P. 203-219.
6. Walkowicz J., Zykov A., Dudin S., Yakovin S., Brudnias R. ICP enhanced reactive magnetron sputtering system for syntesis of alumina coating // Tribologia. - 2006. - No. 6. - P. 163-174.
7. Walkowicz J., Zykov A. V., Dudin S. V., Yakovin S. D. Problems of atomic science and technology. Series Plasma physics. - 2007. - No. 1. - P. 194-196.
8. Denysenko I., Yu M., Dudin S., Zykov A., Azarenkov N. Ion flux uniformity in inductively coupled plasma sources // Phys. Plasmas. - 2002. - Vol. 9, No. 11.
9. Dudin S. V., Zykov A. V., Dahov A. N., Farenik V. I. Experimental research of icp reactor for plasma-chemical etching // Problems of atomic science and technology. Series Plasma physics (12). - 2006.- No. 6.- P. 189 - 191.
10. Маишев Ю. П. Источники ионов для реактивного ионно-лучевого травления и нанесения пленок. // Электронная промышленность.- 1990. - № 5. - 15 c.
11. Walkowicz J., Miernik K., Dudin S., Farenik V. Pulsed-plasma assisted magnetron methods odepositing TiN coatingSurface and coating technology. - 2000. - Vol. 125. - P. 341- 346.
12. Borodin M. I., Dudin S. V., Farenik V. I. Time resolved investigation of non-stationary magnetron discharge // 10th Intl. Conf. on Plasma Physics and Controlled Fusion, Alushta, Ukraine, September 13-18, 2004 / Book of Abstracts, 2004. - 181 p.
13. Dudin S. V., Farenik V. I., Dahov A. N. Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering. Physical Surface Engineering. - 2005. - Vol. 3. - No. 3-4.
14. Зиков О. В., Яковін С. Д., Дудін С. В. Синтез діелектричних сполук на базі магнетрону постійного струму // Физическая инженерия поверхности. - 2009. - Т. 7, № 3. - С. 195-203.
15. Дудин С. В., Зыков А. В. Влияние термоэлектронной эмиссии на компенсацию объемного заряда широкого пучка ионов низкой энергии. // Письма в ЖТФ. - 1994. - Т. 20, вып. 11. - С. 58-63.
2. Rius G., Llobet J., Esplandiu M. J., Sole L., Borrise X., Perez-Murano F., Microelectronic Engineering. - 2009. - Vol. 86. - 892 p.
3. Harold R. Kaufman, J. Vac. Sci. Technol. A . - 1985 . - Vol. 4. - 764 p.
4. Кузмичев А. И. Введение в физику и техни¬ку магнетронного распыления. - К. Аверс, 2008. - 244 с.
5. Sail I. Recent aspects concerning DC reactive magnetron sputtering of thin films:a review// Surf. Coat. Technol. - 2000. - Vol. 127. - P. 203-219.
6. Walkowicz J., Zykov A., Dudin S., Yakovin S., Brudnias R. ICP enhanced reactive magnetron sputtering system for syntesis of alumina coating // Tribologia. - 2006. - No. 6. - P. 163-174.
7. Walkowicz J., Zykov A. V., Dudin S. V., Yakovin S. D. Problems of atomic science and technology. Series Plasma physics. - 2007. - No. 1. - P. 194-196.
8. Denysenko I., Yu M., Dudin S., Zykov A., Azarenkov N. Ion flux uniformity in inductively coupled plasma sources // Phys. Plasmas. - 2002. - Vol. 9, No. 11.
9. Dudin S. V., Zykov A. V., Dahov A. N., Farenik V. I. Experimental research of icp reactor for plasma-chemical etching // Problems of atomic science and technology. Series Plasma physics (12). - 2006.- No. 6.- P. 189 - 191.
10. Маишев Ю. П. Источники ионов для реактивного ионно-лучевого травления и нанесения пленок. // Электронная промышленность.- 1990. - № 5. - 15 c.
11. Walkowicz J., Miernik K., Dudin S., Farenik V. Pulsed-plasma assisted magnetron methods odepositing TiN coatingSurface and coating technology. - 2000. - Vol. 125. - P. 341- 346.
12. Borodin M. I., Dudin S. V., Farenik V. I. Time resolved investigation of non-stationary magnetron discharge // 10th Intl. Conf. on Plasma Physics and Controlled Fusion, Alushta, Ukraine, September 13-18, 2004 / Book of Abstracts, 2004. - 181 p.
13. Dudin S. V., Farenik V. I., Dahov A. N. Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering. Physical Surface Engineering. - 2005. - Vol. 3. - No. 3-4.
14. Зиков О. В., Яковін С. Д., Дудін С. В. Синтез діелектричних сполук на базі магнетрону постійного струму // Физическая инженерия поверхности. - 2009. - Т. 7, № 3. - С. 195-203.
15. Дудин С. В., Зыков А. В. Влияние термоэлектронной эмиссии на компенсацию объемного заряда широкого пучка ионов низкой энергии. // Письма в ЖТФ. - 1994. - Т. 20, вып. 11. - С. 58-63.
Опубліковано
2015-06-22
Як цитувати
Яковін, С. Д., Зиков, О. В., Дудін, С. В., Фаренік, В. І., & Юнаков, М. М. (2015). Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів. Журнал фізики та інженерії поверхні, 12(3), 428 - 439. вилучено із https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/2863
Розділ
Статті
У відповідності з типовим шаблоном.
