Порівняльний аналіз різних джерел плазми для цілей реактивного нанесення покриттів і дифузійного насичення металів
Ключові слова:
вакуум-плазмові технології, реактивне нанесення покриттів, іонно-плазмове дифузійне модифікування поверхні металівАнотація
Виконано зондові вимірювання параметрів різних джерел технологічної плазми, що використовуються в вакуум-плазмових технологіях при реактивному нанесенні покриттів і дифузійному насиченні металів. Проведено порівняльний аналіз плазмових джерел магнетронного й вакуум-дугового розрядів, що використовуються в процесах реактивного нанесення функціональних покриттів, та плазмових джерел тліючого розряду й подвійного дугового розряду, що використовуються для очищення поверхні і іонного насичення. Розглянуто особливості за стосування різних плазмових джерел для підвищення стабільності і керованості процесів на пилення і отримання якісних покриттівЗавантаження
Опубліковано
2017-07-05
Номер
Розділ
Статті
Ліцензія
У відповідності з типовим шаблоном.Як цитувати
Порівняльний аналіз різних джерел плазми для цілей реактивного нанесення покриттів і дифузійного насичення металів. (2017). Журнал фізики та інженерії поверхні, 12(2), 285-298. https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/8704