Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы

Authors

  • В. В. Васильев Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • А. А. Лучанинов Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Е. Н. Решетняк Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • В. Е. Стрельницкий Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Г. Н. Толмачева Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Г. А. Прибытков Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
  • А. В. Гурских Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
  • М. Г. Криницын Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия

Abstract

Исследованы структура и фазовый состав катодных материалов системы Ti-Si, полученных спеканием смесей порошков титана, кремния и силицида титана Ti5Si3. Установлено, что спекание смесей Ti + Ti5Si3 позволяет получать качественные катодные материалы с содержанием кремния до 15 ат. %. Обнаружено, что в штатном режиме работы источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы возникают проблемы со стабильностью горения разряда, обусловленные возникновением дефектов на поверхности порошковых катодов. Использован способ подачи реакционного газа в вакуумную камеру через источник плазмы, что позволило добиться стабильной работы порошковых катодов при осаждении покрытий нитридов. В условиях использования высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложку получены покрытия системы Ti-Si-N. Исследовано влияние параметров осаждения на состав, структуру и свойства покрытий. Определены условия, позволяющие синтезировать наноструктурные покрытия с высокой твердостью.

Author Biographies

  • В. В. Васильев, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • А. А. Лучанинов, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • Е. Н. Решетняк, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • В. Е. Стрельницкий, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Проф.
  • Г. Н. Толмачева, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    Н.С.
  • Г. А. Прибытков, Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
    Н.С.
  • А. В. Гурских, Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
    Н.С.
  • М. Г. Криницын, Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, г. Томск, Россия
    Н.С.

Downloads

Published

2015-12-04

Issue

Vol. 13 No. 2 (2015): Фізична інженерія поверхні

Section

Статті

License

У відповідності з типовим шаблоном.

How to Cite

Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. (2015). Journal of Surface Physics and Engineering, 13(2), 148 – 163. https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/4553

Most read articles by the same author(s)

1 2 > >>