[1]
«Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы», ЖФІП, вип. 13, вип. 2, с. 148 – 163, Груд 2015, дата звернення: Лис 14, 2026. доступний у: https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/4553