Дослідження кінетики утворювання фаз у системі MoSi2-W в умовах нагрівання при температурах 1500—1800 °С
Ключові слова:
покриття, силіцид, дифузія, жаростійкість, вольфрам, молібден, ніобій, кремнійАнотація
Досліджено кінетику перерозподілу фаз у системі MoSi2-W при 1500—1800 °С. Визначено кі нетичні параметри росту нижчих силіцидів (Mo, W)5Si3 і зменшення шару вищого силіциду MoSi2 залежно від температури окислення. Встановлено, що стабільність системи MoSi2-W перевищує стабільність систем MoSi2-Mo і WSi2-W.
Завантаження
Опубліковано
2017-07-05
Номер
Розділ
Статті
Ліцензія
У відповідності з типовим шаблоном.Як цитувати
Дослідження кінетики утворювання фаз у системі MoSi2-W в умовах нагрівання при температурах 1500—1800 °С. (2017). Журнал фізики та інженерії поверхні, 12(2), 219-222. https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/8599