The kinetics of phase formation in system MoSi2-W under heating at temperature 1500—1800 °C

Authors

  • П. И. Глушко Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • А. Ю. Журавлёв Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Н. А. Семёнов, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Н. А. Хованский Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • Б. М. Широков Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • А. В. Шиян Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
  • В. В. Щербакова Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»

Keywords:

сoating, silicide, diffusion, heat resistance, tungsten, molibden, niobium, silicon

Abstract

The kinetics of phase redistribution in the MoSi2-W system has been investigated in the temperature range 1500—1800 °С. Kinetic parameters for growth of low silicides (Mo, W)5Si3 and loss of the highest silicide MoSi2 were determined depending on the temperature of oxidation. It isthat stability of multicomponent and multiphase systems MoSі2-W exceeds stability system MoSі2-Mo and WSі2-W.

 

 

Author Biographies

  • П. И. Глушко, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.
  • А. Ю. Журавлёв, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.
  • Н. А. Семёнов,, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.
  • Н. А. Хованский, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.
  • Б. М. Широков, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.
  • А. В. Шиян, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.
  • В. В. Щербакова, Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»
    с.н.с.

Downloads

Published

2017-07-05

Issue

Vol. 12 No. 2 (2014): Фізична інженерія поверхні

Section

Статті

License

У відповідності з типовим шаблоном.

How to Cite

The kinetics of phase formation in system MoSi2-W under heating at temperature 1500—1800 °C. (2017). Journal of Surface Physics and Engineering, 12(2), 219-222. https://periodicals.karazin.ua/pse/article/view/8599

Most read articles by the same author(s)