[1]
Васильев, В.В., Лучанинов, А.А., Решетняк, Е.Н., Стрельницкий, В.Е., Толмачева, Г.Н., Прибытков, Г.А., Гурских, А.В. і Криницын, М.Г. 2015. Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. Журнал фізики та інженерії поверхні. 13, 2 (Груд 2015), 148 -.