Вплив температури підкладки на морфологію та кристалічність тонких плівок TiO₂, вирощених методом ALD з використанням TTIP та H₂O - Турдалієв, Темур К.; Зохідов, Ходжіахмад Х.; Іскандаров, Шухрат Ч.; Бердієв, Усмонджон Ф. (Східно-європейський фізичний журнал, 2025)
У цьому дослідженні вивчено вплив температури підкладки на морфологічні та структурні характеристики тонких плівок TiO2, синтезованих термічним методом атомно-шарового осадження з використанням тетрабутизопропоксиду титану та води як прекурсорів. Температуру підкладки змінювали в діапазоні від 200 до 275 °C з кроком 25 °C. Морфологію поверхні досліджували методом атомно-силової мікроскопії, а кристалічну структуру — за допомогою XRD та спектроскопії Рамана. Було встановлено, що плівки, осаджені при 200 °C, мали аморфну структуру з гладкою, конформною поверхнею та мінімальною шорсткістю. Підвищення температури до 225 °C призводило до формування мікроструктур і появи перших ознак кристалізації, що супроводжувалося зростанням шорсткості поверхні. При температурах 250–275 °C утворювалася чітко виражена полікристалічна анатазна структура, що характеризується розвитком зерен і агломерацією наноструктур, про що свідчить підвищення інтенсивності дифракційних піків і зростання параметрів шорсткості поверхні. За результатами XRD-аналізу, середній розмір кристалітів становив від 32 до 71 нм залежно від температури синтезу. Отримані результати демонструють, що температура осадження справляє комплексний вплив як на фазовий склад, так і на морфологію поверхні плівок TiO2, що необхідно враховувати під час їх застосування в функціональних наноструктурах, фотокаталітичних системах, сенсорах та мікроелектронних пристроях.